Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
Titaan (Van) is 'n chemiese element met die atoomgetal 22 en word as Ti op die periodieke tabel gesimboliseer. Dit behoort tot die oorgangsmetalegroep en is bekend vir sy lae digtheid, hoë sterkte-tot-gewig verhouding, en uitsonderlike korrosiebestandheid. Ontdek in 1791 deur William Gregor, titanium het 'n noodsaaklike materiaal in talle nywerhede geword as gevolg van sy unieke kombinasie van eienskappe.
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
Lae digtheid en hoë sterkte: Titaan gaan oor 45% ligter as staal, maar het soortgelyke sterkte, wat dit ideaal maak vir toepassings waar gewigsvermindering van kritieke belang is sonder om krag in te boet.
-
Korrosieweerstand: Dit vorm 'n passiewe oksiedlaag wat die onderliggende metaal teen korrosiewe stowwe beskerm, insluitend seewater en chloor, maak dit hoogs bestand teen korrosie.
-
Bioverenigbaarheid: Titaan word goed deur die menslike liggaam verdra en veroorsaak nie nadelige reaksies nie, daarom word dit wyd gebruik in mediese inplantings en chirurgiese instrumente.
-
Hitteweerstand: Met 'n smeltpunt van 1 668°C (3,034°F), titanium kan hoë temperature weerstaan, wat dit geskik maak vir lugvaart- en motortoepassings.
-
Nie-magneties en nie-giftig: Hierdie eienskappe maak titaan ideaal vir toepassings in MRI-masjiene en ander sensitiewe elektroniese toestelle.
-
Moegheidsweerstand: Titaan toon uitstekende weerstand teen metaalmoegheid, deurslaggewend in sikliese laaitoepassings soos vliegtuigonderdele.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, en reinheid. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. Byvoorbeeld, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Maatskappy profiel
Metal Mummy is 'n betroubare wêreldwye verskaffer van chemiese materiaal & vervaardiger met meer as 12 jaar ondervinding in die verskaffing van super hoë kwaliteit koper en familie produkte.
Die maatskappy het 'n professionele tegniese afdeling en kwaliteitstoesigafdeling, 'n goed toegeruste laboratorium, en toegerus met gevorderde toetstoerusting en na-verkope kliëntedienssentrum.
As jy op soek is na hoë kwaliteit metaalpoeier en relatiewe produkte, kontak ons asseblief of klik op die benodigde produkte om 'n navraag te stuur.
Betaalmetodes
L/C, T/T, Western Union, Paypal, Kredietkaart ens.
Versending
Dit kan per see verskeep word, deur die lug, of deur so gou moontlik te openbaar sodra terugbetaling ontvangs is.
Gereelde vrae
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
