factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target

Overview of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target

ቲታኒየም (የ) የአቶሚክ ቁጥር ያለው የኬሚካል ንጥረ ነገር ነው። 22 እና በፔርዲክቲክ ገበታ ላይ ቲ ተብሎ ተመስሏል።. እሱ የሽግግር ብረቶች ቡድን ነው እና በዝቅተኛ እፍጋት ይታወቃል, ከፍተኛ ጥንካሬ-ወደ-ክብደት ጥምርታ, እና ልዩ የዝገት መቋቋም. ውስጥ ተገኝቷል 1791 በዊልያም ግሪጎር, ቲታኒየም በባህሪው ልዩ ውህደት ምክንያት በበርካታ ኢንዱስትሪዎች ውስጥ አስፈላጊ ቁሳቁስ ሆኗል.

Feature of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target

1. ዝቅተኛ ውፍረት እና ከፍተኛ ጥንካሬ: ቲታኒየም ስለ ነው 45% ከብረት ይልቅ ቀላል ነገር ግን ተመሳሳይ ጥንካሬ አለው, ጥንካሬን ሳይቀንስ ክብደት መቀነስ ወሳኝ ለሆኑ መተግበሪያዎች ተስማሚ እንዲሆን ማድረግ.

2. የዝገት መቋቋም: ከስር ያለውን ብረትን ከሚበላሹ ነገሮች የሚከላከል ፓሲቭ ኦክሳይድ ንብርብር ይፈጥራል, የባህር ውሃ እና ክሎሪን ጨምሮ, ከዝገት ጋር ከፍተኛ የመቋቋም ችሎታ እንዲኖረው ማድረግ.

3. ባዮተኳሃኝነት: ቲታኒየም በሰው አካል በደንብ ይታገሣል እና አሉታዊ ምላሽ አያስከትልም።, ለዚህም ነው በሕክምና እና በቀዶ ጥገና መሳሪያዎች ውስጥ በስፋት ጥቅም ላይ የሚውለው.

4. የሙቀት መቋቋም: ከ 1,668 ዲግሪ ሴንቲግሬድ የማቅለጫ ነጥብ ጋር (3,034°ኤፍ), ቲታኒየም ከፍተኛ ሙቀትን መቋቋም ይችላል, ለኤሮስፔስ እና ለአውቶሞቲቭ አፕሊኬሽኖች ተስማሚ በማድረግ.

5. ማግኔቲክ ያልሆነ እና መርዛማ ያልሆነ: እነዚህ ንብረቶች ቲታኒየም በኤምአርአይ ማሽኖች እና ሌሎች ሚስጥራዊነት ያላቸው የኤሌክትሮኒክስ መሳሪያዎች ውስጥ ለመተግበሪያዎች ተስማሚ ናቸው.

6. ድካም መቋቋም: ቲታኒየም ለብረት ድካም በጣም ጥሩ የመቋቋም ችሎታ ያሳያል, እንደ አውሮፕላን ክፍሎች ባሉ ሳይክል ጭነት መተግበሪያዎች ውስጥ ወሳኝ.

.

(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)

Parameters of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target

የ “direct 4N purityHIP method” for Ti target and titanium sputtering target is a highly efficient and effective technique that can achieve extremely high purity levels in Ti. This process typically involves the use of a mixture of plasma sources, including a direct beam source and a high energy ion source, to create Ti targets with very low impurities.
The purity level of the Ti target can be significantly improved by using the HIP method, which involves heating the Ti target to extremely high temperatures, creating a plasma pool at the surface of the target. The plasma is then bombarded with ions from a higher-energy source, such as a neutral gas or a special cathode gas, which combine with the plasma to form titanium ions. These titanium ions are then collected and terminated onto the surface of the Ti target, resulting in a highly pure Ti target.
In addition to improving the purity of the Ti target, the HIP method also provides several other advantages over traditional techniques, such as better control over the ionization conditions and higher efficiency in the removal of impurities. By carefully selecting and optimizing the parameters used in this process, it is possible to achieve high purity levels even in cases where impurities may accumulate at the surface of the Ti target.

(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)

የኩባንያው መገለጫ

ሜታል ሙሚ የታመነ ዓለም አቀፍ የኬሚካል ቁሳቁስ አቅራቢ ነው። & እጅግ በጣም ጥራት ያለው የመዳብ እና የዘመድ ምርቶችን በማቅረብ ከ12 ዓመት በላይ ልምድ ያለው አምራች.

ኩባንያው ሙያዊ የቴክኒክ ክፍል እና የጥራት ቁጥጥር መምሪያ አለው, በሚገባ የታጠቀ ላብራቶሪ, እና የላቀ የሙከራ መሣሪያዎች እና ከሽያጭ በኋላ የደንበኞች አገልግሎት ማዕከል የታጠቁ.

ከፍተኛ ጥራት ያለው የብረት ዱቄት እና አንጻራዊ ምርቶችን እየፈለጉ ከሆነ, እባክዎን እኛን ለማግኘት ነፃነት ይሰማዎ ወይም ጥያቄ ለመላክ የሚያስፈልጉትን ምርቶች ጠቅ ያድርጉ.

የመክፈያ ዘዴዎች

ኤል/ሲ, ቲ/ቲ, ዌስተርን ዩኒየን, Paypal, ክሬዲት ካርድ ወዘተ.

መላኪያ

በባህር ሊጓጓዝ ይችላል, በአየር, ወይም የክፍያ ደረሰኝ እንደደረሰ አሳፕን በመግለጽ.

የሚጠየቁ ጥያቄዎች

(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)