High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

ቲታኒየም (የ) የአቶሚክ ቁጥር ያለው የኬሚካል ንጥረ ነገር ነው። 22 እና በፔርዲክቲክ ገበታ ላይ ቲ ተብሎ ተመስሏል።. እሱ የሽግግር ብረቶች ቡድን ነው እና በዝቅተኛ እፍጋት ይታወቃል, ከፍተኛ ጥንካሬ-ወደ-ክብደት ጥምርታ, እና ልዩ የዝገት መቋቋም. ውስጥ ተገኝቷል 1791 በዊልያም ግሪጎር, ቲታኒየም በባህሪው ልዩ ውህደት ምክንያት በበርካታ ኢንዱስትሪዎች ውስጥ አስፈላጊ ቁሳቁስ ሆኗል.

Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

1. ዝቅተኛ ውፍረት እና ከፍተኛ ጥንካሬ: ቲታኒየም ስለ ነው 45% ከብረት ይልቅ ቀላል ነገር ግን ተመሳሳይ ጥንካሬ አለው, ጥንካሬን ሳይቀንስ ክብደት መቀነስ ወሳኝ ለሆኑ መተግበሪያዎች ተስማሚ እንዲሆን ማድረግ.

2. የዝገት መቋቋም: ከስር ያለውን ብረትን ከሚበላሹ ነገሮች የሚከላከል ፓሲቭ ኦክሳይድ ንብርብር ይፈጥራል, የባህር ውሃ እና ክሎሪን ጨምሮ, ከዝገት ጋር ከፍተኛ የመቋቋም ችሎታ እንዲኖረው ማድረግ.

3. ባዮተኳሃኝነት: ቲታኒየም በሰው አካል በደንብ ይታገሣል እና አሉታዊ ምላሽ አያስከትልም።, ለዚህም ነው በሕክምና እና በቀዶ ጥገና መሳሪያዎች ውስጥ በስፋት ጥቅም ላይ የሚውለው.

4. የሙቀት መቋቋም: ከ 1,668 ዲግሪ ሴንቲግሬድ የማቅለጫ ነጥብ ጋር (3,034°ኤፍ), ቲታኒየም ከፍተኛ ሙቀትን መቋቋም ይችላል, ለኤሮስፔስ እና ለአውቶሞቲቭ አፕሊኬሽኖች ተስማሚ በማድረግ.

5. ማግኔቲክ ያልሆነ እና መርዛማ ያልሆነ: እነዚህ ንብረቶች ቲታኒየም በኤምአርአይ ማሽኖች እና ሌሎች ሚስጥራዊነት ያላቸው የኤሌክትሮኒክስ መሳሪያዎች ውስጥ ለመተግበሪያዎች ተስማሚ ናቸው.

6. ድካም መቋቋም: ቲታኒየም ለብረት ድካም በጣም ጥሩ የመቋቋም ችሎታ ያሳያል, እንደ አውሮፕላን ክፍሎች ባሉ ሳይክል ጭነት መተግበሪያዎች ውስጥ ወሳኝ.

.

(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)

Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:

* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, ጥግግት, እና ንጽሕና. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. For example, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.

It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.

(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)

የኩባንያው መገለጫ

ሜታል ሙሚ የታመነ ዓለም አቀፍ የኬሚካል ቁሳቁስ አቅራቢ ነው። & እጅግ በጣም ጥራት ያለው የመዳብ እና የዘመድ ምርቶችን በማቅረብ ከ12 ዓመት በላይ ልምድ ያለው አምራች.

ኩባንያው ሙያዊ የቴክኒክ ክፍል እና የጥራት ቁጥጥር መምሪያ አለው, በሚገባ የታጠቀ ላብራቶሪ, እና የላቀ የሙከራ መሣሪያዎች እና ከሽያጭ በኋላ የደንበኞች አገልግሎት ማዕከል የታጠቁ.

ከፍተኛ ጥራት ያለው የብረት ዱቄት እና አንጻራዊ ምርቶችን እየፈለጉ ከሆነ, እባክዎን እኛን ለማግኘት ነፃነት ይሰማዎ ወይም ጥያቄ ለመላክ የሚያስፈልጉትን ምርቶች ጠቅ ያድርጉ.

የመክፈያ ዘዴዎች

ኤል/ሲ, ቲ/ቲ, ዌስተርን ዩኒየን, Paypal, ክሬዲት ካርድ ወዘተ.

መላኪያ

በባህር ሊጓጓዝ ይችላል, በአየር, ወይም የክፍያ ደረሰኝ እንደደረሰ አሳፕን በመግለጽ.

የሚጠየቁ ጥያቄዎች

(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)