Overview of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
التيتانيوم (ل) هو عنصر كيميائي له العدد الذري 22 ويرمز له بالرمز Ti في الجدول الدوري. وهو ينتمي إلى مجموعة المعادن الانتقالية ويتميز بكثافته المنخفضة, نسبة عالية من القوة إلى الوزن, ومقاومة التآكل استثنائية. اكتشف في 1791 بواسطة وليام جريجور, أصبح التيتانيوم مادة حيوية في العديد من الصناعات بسبب مزيجه الفريد من الخصائص.
Feature of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
-
كثافة منخفضة وقوة عالية: التيتانيوم على وشك 45% أخف من الفولاذ ولكن يمتلك قوة مماثلة, مما يجعلها مثالية للتطبيقات التي يكون فيها تقليل الوزن أمرًا بالغ الأهمية دون المساس بالقوة.
-
مقاومة التآكل: إنه يشكل طبقة أكسيد سلبية تحمي المعدن الأساسي من المواد المسببة للتآكل, بما في ذلك مياه البحر والكلور, مما يجعلها شديدة المقاومة للتآكل.
-
التوافق الحيوي: يتحمل جسم الإنسان التيتانيوم جيدًا ولا يسبب ردود فعل سلبية, ولهذا السبب يتم استخدامه على نطاق واسع في الغرسات الطبية والأدوات الجراحية.
-
مقاومة الحرارة: مع نقطة انصهار تبلغ 1668 درجة مئوية (3,034درجة فهرنهايت), يمكن أن يتحمل التيتانيوم درجات الحرارة المرتفعة, مما يجعلها مناسبة لتطبيقات الطيران والسيارات.
-
غير مغناطيسية وغير سامة: هذه الخصائص تجعل التيتانيوم مثاليًا للتطبيقات في أجهزة التصوير بالرنين المغناطيسي والأجهزة الإلكترونية الحساسة الأخرى.
-
مقاومة التعب: يظهر التيتانيوم مقاومة ممتازة للتعب المعدني, حاسمة في تطبيقات التحميل الدوري مثل أجزاء الطائرات.
.
(High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
Parameters of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
The “High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target” you’re referring to likely refers to a sputtering target made of titanium and carbon fibers, commonly known as circular Ti/TiC or circular Ti/CaTiC targets.
When it comes to PVD (Physical Vapor Deposition) coating machines, the target material plays a crucial role in determining the efficiency of the process and the quality of the coated films. In general, high-purity targets require lower contamination levels, so they can achieve better control over the chemical composition of the coatings.
على سبيل المثال, high-purity circular Ti/TiC targets typically have a lower Tc (Thiolate Content) than other types of targets, which reduces the formation of unwanted by-products such as carbons and. This can lead to improved surface quality and higher reliability of the coated film.
على الجانب الآخر, high-purity circular Ti/CaTiC targets may be more expensive to produce due to their higher purity requirements. لكن, their smaller size and lower weight also make them easier to handle and store, making them well-suited for use in a wide range of applications where space and weight constraints are important factors.
It’s important to note that the specific parameter values used will depend on the particular PVD coating machine being used and its intended application. It’s best to consult with the manufacturer or a qualified expert for more information on the target material and its optimal parameters for your specific situation.
(High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
ملف الشركة
إن شركة Metal Mummy هي مورد عالمي موثوق به للمواد الكيميائية & شركة مصنعة تتمتع بخبرة تزيد عن 12 عامًا في تقديم منتجات النحاس والأقارب فائقة الجودة.
لدى الشركة قسم فني محترف وقسم مراقبة الجودة, مختبر مجهز تجهيزا جيدا, ومجهزة بمعدات اختبار متقدمة ومركز خدمة العملاء بعد البيع.
إذا كنت تبحث عن مسحوق معدني عالي الجودة ومنتجات نسبية, لا تتردد في الاتصال بنا أو النقر على المنتجات المطلوبة لإرسال استفسار.
طرق الدفع
خطاب الاعتماد, تي/تي, ويسترن يونيون, باي بال, بطاقة الائتمان الخ.
شحنة
يمكن شحنها عن طريق البحر, عن طريق الجو, أو عن طريق الكشف في أسرع وقت ممكن بمجرد استلام السداد.
التعليمات
(High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
