Overview of High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target
Titan (Of) atom nömrəsi olan kimyəvi elementdir 22 və dövri cədvəldə Ti kimi simvollaşdırılır. Keçid metalları qrupuna aiddir və aşağı sıxlığı ilə tanınır, yüksək gücün çəkiyə nisbəti, və müstəsna korroziya müqaviməti. -də aşkar edilmişdir 1791 William Gregor tərəfindən, titan xassələrinin unikal birləşməsinə görə çoxsaylı sənaye sahələrində həyati bir materiala çevrilmişdir.
Feature of High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target
-
Aşağı Sıxlıq və Yüksək Güc: Titan haqqındadır 45% poladdan daha yüngüldür, lakin eyni gücə malikdir, gücdən ödün vermədən çəki azaltmağın vacib olduğu tətbiqlər üçün ideal hala gətirir.
-
Korroziyaya davamlılıq: Əsas metalı aşındırıcı maddələrdən qoruyan passiv oksid təbəqəsi əmələ gətirir, dəniz suyu və xlor daxil olmaqla, korroziyaya yüksək dərəcədə davamlıdır.
-
Biouyğunluq: Titan insan orqanizmi tərəfindən yaxşı tolere edilir və mənfi reaksiyalara səbəb olmur, buna görə də tibbi implantlarda və cərrahi alətlərdə geniş istifadə olunur.
-
İstilik müqaviməti: Ərimə nöqtəsi 1,668 ° C ilə (3,034°F), titan yüksək temperaturlara davam edə bilər, aerokosmik və avtomobil tətbiqləri üçün uyğun edir.
-
Qeyri-maqnit və toksik olmayan: Bu xüsusiyyətlər titanı MRT maşınlarında və digər həssas elektron cihazlarda tətbiqlər üçün ideal hala gətirir.
-
Yorğunluq Müqaviməti: Titan metal yorğunluğuna qarşı əla müqavimət göstərir, təyyarə hissələri kimi dövri yükləmə tətbiqlərində çox vacibdir.
.
(High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target)
Parameters of High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target
The high purity titanium carbide (TiC) granules, tozlar, plates, and tubes can be produced using sputtering targets, which are typically made of ceramic materials such as zirconia or cerium oxide.
The target parameter refers to the specific properties that determine how well the sputtered material will function in a particular application. Bəzi ümumi parametrlər daxildir:
* Temperature: The temperature at which the sputtering process takes place is an important factor that affects the rate of sputtering and the final product’s properties.
* Pressure: The pressure at which the sputtering process takes place can also affect the properties of the sputtered material. Higher pressures can result in higher temperatures, but may also lead to faster sputtering rates and reduced surface quality.
* Alumina content: The presence of aluminum on the sputtering target can affect the sputtering behavior and final product properties.
* Tərkibi: The composition of the sputtering target can affect its electrical conductivity, thermal stability, and mechanical properties.
Ümumilikdə, selecting the appropriate target parameter for a given application is critical for achieving optimal performance of the sputtered material. Engineers should consider factors such as material type, desired properties, and intended use when selecting the target parameter.
(High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target)
Şirkət Profili
Metal Mummy etibarlı qlobal kimyəvi material tədarükçüsüdür & super yüksək keyfiyyətli mis və qohum məhsulları təmin etməkdə 12 ildən çox təcrübəyə malik istehsalçı.
Şirkətdə peşəkar texniki şöbə və Keyfiyyətə Nəzarət Departamenti fəaliyyət göstərir, yaxşı təchiz olunmuş laboratoriya, və qabaqcıl sınaq avadanlığı və satış sonrası müştəri xidməti mərkəzi ilə təchiz edilmişdir.
Yüksək keyfiyyətli metal toz və nisbi məhsullar axtarırsınızsa, zəhmət olmasa bizimlə əlaqə saxlayın və ya sorğu göndərmək üçün lazım olan məhsulların üzərinə klikləyin.
Ödəniş üsulları
L/C, T/T, Western Union, Paypal, Kredit kartı və s.
Göndərmə
Dəniz yolu ilə göndərilə bilərdi, hava ilə, və ya ödəniş qəbzi olan kimi ASAP aşkar etməklə.
Tez-tez verilən suallar
(High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target)
