Overview of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
Titan (Of) atom nömrəsi olan kimyəvi elementdir 22 və dövri cədvəldə Ti kimi simvollaşdırılır. Keçid metalları qrupuna aiddir və aşağı sıxlığı ilə tanınır, yüksək gücün çəkiyə nisbəti, və müstəsna korroziya müqaviməti. -də aşkar edilmişdir 1791 William Gregor tərəfindən, titan xassələrinin unikal birləşməsinə görə çoxsaylı sənaye sahələrində həyati bir materiala çevrilmişdir.
Feature of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
-
Aşağı Sıxlıq və Yüksək Güc: Titan haqqındadır 45% poladdan daha yüngüldür, lakin eyni gücə malikdir, gücdən ödün vermədən çəki azaltmağın vacib olduğu tətbiqlər üçün ideal hala gətirir.
-
Korroziyaya davamlılıq: Əsas metalı aşındırıcı maddələrdən qoruyan passiv oksid təbəqəsi əmələ gətirir, dəniz suyu və xlor daxil olmaqla, korroziyaya yüksək dərəcədə davamlıdır.
-
Biouyğunluq: Titan insan orqanizmi tərəfindən yaxşı tolere edilir və mənfi reaksiyalara səbəb olmur, buna görə də tibbi implantlarda və cərrahi alətlərdə geniş istifadə olunur.
-
İstilik müqaviməti: Ərimə nöqtəsi 1,668 ° C ilə (3,034°F), titan yüksək temperaturlara davam edə bilər, aerokosmik və avtomobil tətbiqləri üçün uyğun edir.
-
Qeyri-maqnit və toksik olmayan: Bu xüsusiyyətlər titanı MRT maşınlarında və digər həssas elektron cihazlarda tətbiqlər üçün ideal hala gətirir.
-
Yorğunluq Müqaviməti: Titan metal yorğunluğuna qarşı əla müqavimət göstərir, təyyarə hissələri kimi dövri yükləmə tətbiqlərində çox vacibdir.
.
(High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
Parameters of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
The “High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target” you’re referring to likely refers to a sputtering target made of titanium and carbon fibers, commonly known as circular Ti/TiC or circular Ti/CaTiC targets.
When it comes to PVD (Physical Vapor Deposition) coating machines, the target material plays a crucial role in determining the efficiency of the process and the quality of the coated films. In general, high-purity targets require lower contamination levels, so they can achieve better control over the chemical composition of the coatings.
For example, high-purity circular Ti/TiC targets typically have a lower Tc (Thiolate Content) than other types of targets, which reduces the formation of unwanted by-products such as carbons and. This can lead to improved surface quality and higher reliability of the coated film.
On the other hand, high-purity circular Ti/CaTiC targets may be more expensive to produce due to their higher purity requirements. Lakin, their smaller size and lower weight also make them easier to handle and store, making them well-suited for use in a wide range of applications where space and weight constraints are important factors.
It’s important to note that the specific parameter values used will depend on the particular PVD coating machine being used and its intended application. It’s best to consult with the manufacturer or a qualified expert for more information on the target material and its optimal parameters for your specific situation.
(High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
Şirkət Profili
Metal Mummy etibarlı qlobal kimyəvi material tədarükçüsüdür & super yüksək keyfiyyətli mis və qohum məhsulları təmin etməkdə 12 ildən çox təcrübəyə malik istehsalçı.
Şirkətdə peşəkar texniki şöbə və Keyfiyyətə Nəzarət Departamenti fəaliyyət göstərir, yaxşı təchiz olunmuş laboratoriya, və qabaqcıl sınaq avadanlığı və satış sonrası müştəri xidməti mərkəzi ilə təchiz edilmişdir.
Yüksək keyfiyyətli metal toz və nisbi məhsullar axtarırsınızsa, zəhmət olmasa bizimlə əlaqə saxlayın və ya sorğu göndərmək üçün lazım olan məhsulların üzərinə klikləyin.
Ödəniş üsulları
L/C, T/T, Western Union, Paypal, Kredit kartı və s.
Göndərmə
Dəniz yolu ilə göndərilə bilərdi, hava ilə, və ya ödəniş qəbzi olan kimi ASAP aşkar etməklə.
Tez-tez verilən suallar
(High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
