Overview of Whole titanium sputtering target
Тытан (з) — хімічны элемент з атамным нумарам 22 і сімвалізуецца як Ti у перыядычнай сістэме. Ён належыць да групы пераходных металаў і вядомы сваёй нізкай шчыльнасцю, высокае суадносіны трываласці і вагі, і выключная ўстойлівасць да карозіі. Выяўлена ў в 1791 Уільям Грэгар, тытан стаў жыццёва важным матэрыялам у многіх галінах прамысловасці дзякуючы сваёй унікальнай камбінацыі ўласцівасцей.
Feature of Whole titanium sputtering target
-
Нізкая шчыльнасць і высокая трываласць: Тытан - гэта каля 45% лягчэй, чым сталь, але валодае падобнай трываласцю, што робіць яго ідэальным для прыкладанняў, дзе зніжэнне вагі мае вырашальнае значэнне без шкоды для трываласці.
-
Ўстойлівасць да карозіі: Ён утварае пасіўны аксідны пласт, які абараняе падсцілаючы метал ад агрэсіўных рэчываў, уключаючы марскую ваду і хлор, што робіць яго вельмі ўстойлівым да карозіі.
-
Біясумяшчальнасць: Тытан добра пераносіцца арганізмам чалавека і не выклікае пабочных рэакцый, таму ён шырока выкарыстоўваецца ў медыцынскіх імплантатах і хірургічных інструментах.
-
Тэрмаўстойлівасць: З тэмпературай плаўлення 1668°C (3,034°F), тытан вытрымлівае высокія тэмпературы, што робіць яго прыдатным для аэракасмічнай і аўтамабільнай прамысловасці.
-
Немагнітны і не таксічны: Гэтыя ўласцівасці робяць тытан ідэальным для прымянення ў апаратах МРТ і іншых адчувальных электронных прыладах.
-
Устойлівасць да стомленасці: Тытан дэманструе выдатную ўстойлівасць да стомленасці металу, мае вырашальнае значэнне ў праграмах цыклічнай загрузкі, такіх як дэталі самалётаў.
.
(Whole titanium sputtering target)
Parameters of Whole titanium sputtering target
The parameters of a whole titanium sputtering target refer to the factors that influence the performance and behavior of the target during sputtering processes. Some of the key parameters include:
1. Cross-section area: The cross-sectional area of the target determines its surface area, which affects the number of ions that can be impinging on it per unit time.
2. Critical current density: The critical current density is the minimum amount of current needed for ionization and deposition to occur at a given temperature. It is an important parameter for controlling the rate of sputtering processes.
3. Sputtering velocity: The sputtering velocity determines how quickly ions with different energies and charges can collide with the target. A higher sputtering velocity results in faster ionization and deposition rates.
4. Temperature: The temperature of the target determines the rate of sputtering and the properties of the deposited layer. Higher temperatures result in more rapid sputtering and deposition, but may also lead to greater thermal stress and damage to the material being sputtered.
5. Characteristic sputtering parameters: These are specific characteristics of the sputtering process that depend on the above parameters, such as the deposition rate, grain size, and purity of the deposited layer.
6. Beam profile: The beam profile of the sputtering beam is also important, as it affects the diffraction pattern of the deposited layer and can affect the thickness of the deposit.
У цэлым, understanding these parameters is crucial for optimizing the performance of a whole titanium sputtering target and achieving desired properties for industrial applications.
(Whole titanium sputtering target)
Профіль кампаніі
Metal Mummy з'яўляецца надзейным сусветным пастаўшчыком хімічных матэрыялаў & вытворца з больш чым 12-гадовым вопытам у прадастаўленні вельмі якаснай меднай і роднаснай прадукцыі.
У кампаніі ёсць прафесійны тэхнічны аддзел і аддзел кантролю якасці, добра абсталяваная лабараторыя, і абсталяваны перадавым абсталяваннем для тэсціравання і цэнтрам пасляпродажнага абслугоўвання кліентаў.
Калі вы шукаеце высакаякасны металічны парашок і адпаведныя прадукты, калі ласка, не саромейцеся звязацца з намі або націсніце на патрэбныя прадукты, каб адправіць запыт.
Спосабы аплаты
акрэдытыў, T/T, Вестэрн Юніён, PayPal, Крэдытная карта і г.д.
Адгрузка
Яго можна было даставіць марскім шляхам, па паветры, або паведаміць як мага хутчэй, як толькі атрымаецца пагашэнне.
FAQ
(Whole titanium sputtering target)
