Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
Титан (на) е химичен елемент с атомен номер 22 и се символизира като Ti в периодичната таблица. Той принадлежи към групата на преходните метали и е известен с ниската си плътност, високо съотношение якост към тегло, и изключителна устойчивост на корозия. Открит в 1791 от Уилям Грегър, титанът се е превърнал в жизненоважен материал в много индустрии поради уникалната си комбинация от свойства.
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
Ниска плътност и висока якост: Титанът е около 45% по-лек от стоманата, но притежава подобна здравина, което го прави идеален за приложения, при които намаляването на теглото е критично без компромис със здравината.
-
Устойчивост на корозия: Той образува пасивен оксиден слой, който предпазва основния метал от корозивни вещества, включително морска вода и хлор, което го прави много устойчив на корозия.
-
Биосъвместимост: Титанът се понася добре от човешкото тяло и не предизвиква нежелани реакции, поради което се използва широко в медицински импланти и хирургически инструменти.
-
Устойчивост на топлина: С точка на топене 1668°C (3,034°F), титанът може да издържа на високи температури, което го прави подходящ за космически и автомобилни приложения.
-
Немагнитен и нетоксичен: Тези свойства правят титана идеален за приложения в машини за ЯМР и други чувствителни електронни устройства.
-
Устойчивост на умора: Титанът демонстрира отлична устойчивост на умора на метала, от решаващо значение при приложения с циклично натоварване, като например части за самолети.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, и чистота. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. For example, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Фирмен профил
Metal Mummy е доверен световен доставчик на химически материали & производител с над 12-годишен опит в предоставянето на супер висококачествени медни и сродни продукти.
Компанията разполага с професионален технически отдел и отдел за надзор на качеството, добре оборудвана лаборатория, и оборудван с модерно оборудване за тестване и център за следпродажбено обслужване на клиенти.
Ако търсите висококачествен метален прах и подобни продукти, моля не се колебайте да се свържете с нас или щракнете върху необходимите продукти, за да изпратите запитване.
Начини на плащане
акредитив, T/T, Western Union, Paypal, Кредитна карта и др.
Пратка
Може да се транспортира по море, по въздух, или чрез разкриване възможно най-скоро веднага след получаване на погасителната бележка.
ЧЗВ
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
