Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
Titani (De) és un element químic amb nombre atòmic 22 i es simbolitza com Ti a la taula periòdica. Pertany al grup dels metalls de transició i és conegut per la seva baixa densitat, alta relació resistència-pes, i una resistència a la corrosió excepcional. Descobert a 1791 per William Gregor, El titani s'ha convertit en un material vital en nombroses indústries a causa de la seva combinació única de propietats.
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
Baixa densitat i alta resistència: Es tracta de titani 45% més lleuger que l'acer, però té una resistència similar, el que el fa ideal per a aplicacions on la reducció de pes és crítica sense comprometre la força.
-
Resistència a la corrosió: Forma una capa d'òxid passiu que protegeix el metall subjacent de les substàncies corrosives, inclosa l'aigua de mar i el clor, fent-lo altament resistent a la corrosió.
-
Biocompatibilitat: El titani és ben tolerat pel cos humà i no causa reaccions adverses, és per això que s'utilitza àmpliament en implants mèdics i instruments quirúrgics.
-
Resistència a la calor: Amb un punt de fusió de 1.668 °C (3,034°F), El titani pot suportar altes temperatures, fent-lo adequat per a aplicacions aeroespacials i d'automoció.
-
No magnètic i no tòxic: Aquestes propietats fan que el titani sigui ideal per a aplicacions en màquines de ressonància magnètica i altres dispositius electrònics sensibles.
-
Resistència a la fatiga: El titani demostra una excel·lent resistència a la fatiga dels metalls, crucial en aplicacions de càrrega cíclica com ara peces d'avions.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, and purity. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. Per exemple, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Perfil de l'empresa
Metal Mummy és un proveïdor mundial de materials químics de confiança & fabricant amb més de 12 anys d'experiència proporcionant productes de coure i familiars de gran qualitat.
L'empresa compta amb un departament tècnic professional i un departament de supervisió de qualitat, un laboratori ben equipat, i equipat amb equips de prova avançats i centre d'atenció al client postvenda.
Si busqueu pols metàl·lic d'alta qualitat i productes relatius, si us plau, no dubti en contactar amb nosaltres o fer clic als productes necessaris per enviar una consulta.
Mètodes de pagament
L/C, T/T, Western Union, Paypal, Targeta de crèdit, etc.
Enviament
Es podria enviar per mar, per aire, o revelant el més aviat possible tan aviat com es rebut el pagament.
Preguntes freqüents
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
