Overview of High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target
Titaniwm (O) yn elfen gemegol gyda'r rhif atomig 22 ac fe'i symbolir fel Ti ar y tabl cyfnodol. Mae'n perthyn i'r grŵp metelau trosiannol ac mae'n adnabyddus am ei ddwysedd isel, cymhareb cryfder-i-bwysau uchel, ac ymwrthedd cyrydiad eithriadol. Wedi'i ddarganfod yn 1791 gan William Gregor, mae titaniwm wedi dod yn ddeunydd hanfodol ar draws nifer o ddiwydiannau oherwydd ei gyfuniad unigryw o briodweddau.
Feature of High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target
-
Dwysedd Isel a Cryfder Uchel: Titaniwm yn ymwneud 45% yn ysgafnach na dur ond yn meddu ar gryfder tebyg, gan ei gwneud yn ddelfrydol ar gyfer ceisiadau lle mae lleihau pwysau yn hanfodol heb gyfaddawdu cryfder.
-
Gwrthsefyll Cyrydiad: Mae'n ffurfio haen ocsid goddefol sy'n amddiffyn y metel gwaelodol rhag sylweddau cyrydol, gan gynnwys dŵr môr a chlorin, gan ei gwneud yn gallu gwrthsefyll cyrydiad yn fawr.
-
Biocompatibility: Mae titaniwm yn cael ei oddef yn dda gan y corff dynol ac nid yw'n achosi adweithiau niweidiol, a dyna pam y caiff ei ddefnyddio'n helaeth mewn mewnblaniadau meddygol ac offer llawfeddygol.
-
Gwrthiant Gwres: Gyda phwynt toddi o 1,668°C (3,034°F), gall titaniwm wrthsefyll tymheredd uchel, gan ei gwneud yn addas ar gyfer cymwysiadau awyrofod a modurol.
-
Anfagnetig a Di-wenwynig: Mae'r eiddo hyn yn gwneud titaniwm yn ddelfrydol ar gyfer cymwysiadau mewn peiriannau MRI a dyfeisiau electronig sensitif eraill.
-
Ymwrthedd i Blinder: Mae titaniwm yn dangos ymwrthedd ardderchog i flinder metel, hanfodol mewn cymwysiadau llwytho cylchol fel rhannau awyrennau.
.
(High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target)
Parameters of High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target
The high purity titanium carbide (TiC) granules, powders, plates, and tubes can be produced using sputtering targets, which are typically made of ceramic materials such as zirconia or cerium oxide.
The target parameter refers to the specific properties that determine how well the sputtered material will function in a particular application. Some common parameters include:
* Temperature: The temperature at which the sputtering process takes place is an important factor that affects the rate of sputtering and the final product’s properties.
* Pressure: The pressure at which the sputtering process takes place can also affect the properties of the sputtered material. Higher pressures can result in higher temperatures, but may also lead to faster sputtering rates and reduced surface quality.
* Alumina content: The presence of aluminum on the sputtering target can affect the sputtering behavior and final product properties.
* Cyfansoddiad: The composition of the sputtering target can affect its electrical conductivity, thermal stability, and mechanical properties.
At ei gilydd, selecting the appropriate target parameter for a given application is critical for achieving optimal performance of the sputtered material. Engineers should consider factors such as material type, desired properties, and intended use when selecting the target parameter.
(High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target)
Proffil Cwmni
Mae Metal Mummy yn gyflenwr deunydd cemegol byd-eang dibynadwy & gwneuthurwr gyda dros 12 mlynedd o brofiad o ddarparu cynhyrchion copr a pherthnasau o ansawdd uchel iawn.
Mae gan y cwmni adran dechnegol broffesiynol ac Adran Goruchwylio Ansawdd, labordy â chyfarpar da, ac yn meddu ar offer profi uwch a chanolfan gwasanaeth cwsmeriaid ôl-werthu.
Os ydych chi'n chwilio am bowdr metel o ansawdd uchel a chynhyrchion cymharol, mae croeso i chi gysylltu â ni neu glicio ar y cynhyrchion sydd eu hangen i anfon ymholiad.
Dulliau Talu
L/C, T/T, Undeb gorllewinol, Paypal, Cerdyn Credyd ac ati.
Cludo
Gellid ei gludo ar y môr, mewn awyren, neu drwy ddatgelu cyn gynted ag y derbynnir ad-daliad.
FAQ
(High pure Titanium Carbide TiC granule/power /plate /tube /Sputtering Target)
