Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
Titaniwm (O) yn elfen gemegol gyda'r rhif atomig 22 ac fe'i symbolir fel Ti ar y tabl cyfnodol. Mae'n perthyn i'r grŵp metelau trosiannol ac mae'n adnabyddus am ei ddwysedd isel, cymhareb cryfder-i-bwysau uchel, ac ymwrthedd cyrydiad eithriadol. Wedi'i ddarganfod yn 1791 gan William Gregor, mae titaniwm wedi dod yn ddeunydd hanfodol ar draws nifer o ddiwydiannau oherwydd ei gyfuniad unigryw o briodweddau.
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
Dwysedd Isel a Cryfder Uchel: Titaniwm yn ymwneud 45% yn ysgafnach na dur ond yn meddu ar gryfder tebyg, gan ei gwneud yn ddelfrydol ar gyfer ceisiadau lle mae lleihau pwysau yn hanfodol heb gyfaddawdu cryfder.
-
Gwrthsefyll Cyrydiad: Mae'n ffurfio haen ocsid goddefol sy'n amddiffyn y metel gwaelodol rhag sylweddau cyrydol, gan gynnwys dŵr môr a chlorin, gan ei gwneud yn gallu gwrthsefyll cyrydiad yn fawr.
-
Biocompatibility: Mae titaniwm yn cael ei oddef yn dda gan y corff dynol ac nid yw'n achosi adweithiau niweidiol, a dyna pam y caiff ei ddefnyddio'n helaeth mewn mewnblaniadau meddygol ac offer llawfeddygol.
-
Gwrthiant Gwres: Gyda phwynt toddi o 1,668°C (3,034°F), gall titaniwm wrthsefyll tymheredd uchel, gan ei gwneud yn addas ar gyfer cymwysiadau awyrofod a modurol.
-
Anfagnetig a Di-wenwynig: Mae'r eiddo hyn yn gwneud titaniwm yn ddelfrydol ar gyfer cymwysiadau mewn peiriannau MRI a dyfeisiau electronig sensitif eraill.
-
Ymwrthedd i Blinder: Mae titaniwm yn dangos ymwrthedd ardderchog i flinder metel, hanfodol mewn cymwysiadau llwytho cylchol fel rhannau awyrennau.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, a phurdeb. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Amhuredd: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. For example, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Proffil Cwmni
Mae Metal Mummy yn gyflenwr deunydd cemegol byd-eang dibynadwy & gwneuthurwr gyda dros 12 mlynedd o brofiad o ddarparu cynhyrchion copr a pherthnasau o ansawdd uchel iawn.
Mae gan y cwmni adran dechnegol broffesiynol ac Adran Goruchwylio Ansawdd, labordy â chyfarpar da, ac yn meddu ar offer profi uwch a chanolfan gwasanaeth cwsmeriaid ôl-werthu.
Os ydych chi'n chwilio am bowdr metel o ansawdd uchel a chynhyrchion cymharol, mae croeso i chi gysylltu â ni neu glicio ar y cynhyrchion sydd eu hangen i anfon ymholiad.
Dulliau Talu
L/C, T/T, Undeb gorllewinol, Paypal, Cerdyn Credyd ac ati.
Cludo
Gellid ei gludo ar y môr, mewn awyren, neu drwy ddatgelu cyn gynted ag y derbynnir ad-daliad.
FAQ
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
