Overview of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
Titan (Von) ist ein chemisches Element mit der Ordnungszahl 22 und wird im Periodensystem als Ti symbolisiert. Es gehört zur Gruppe der Übergangsmetalle und ist für seine geringe Dichte bekannt, hohes Verhältnis von Festigkeit zu Gewicht, und außergewöhnliche Korrosionsbeständigkeit. Entdeckt in 1791 von William Gregor, Aufgrund seiner einzigartigen Eigenschaftskombination ist Titan in zahlreichen Branchen zu einem unverzichtbaren Werkstoff geworden.
Feature of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
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Geringe Dichte und hohe Festigkeit: Titan ist ungefähr 45% leichter als Stahl, besitzt aber eine ähnliche Festigkeit, Damit eignet es sich ideal für Anwendungen, bei denen eine Gewichtsreduzierung ohne Kompromisse bei der Festigkeit von entscheidender Bedeutung ist.
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Korrosionsbeständigkeit: Es bildet eine passive Oxidschicht, die das darunter liegende Metall vor korrosiven Substanzen schützt, einschließlich Meerwasser und Chlor, Dadurch ist es äußerst korrosionsbeständig.
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Biokompatibilität: Titan wird vom menschlichen Körper gut vertragen und verursacht keine Nebenwirkungen, Aus diesem Grund wird es häufig in medizinischen Implantaten und chirurgischen Instrumenten verwendet.
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Hitzebeständigkeit: Mit einem Schmelzpunkt von 1.668°C (3,034°F), Titan hält hohen Temperaturen stand, Dadurch eignet es sich für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt sowie im Automobilbereich.
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Nicht magnetisch und ungiftig: Diese Eigenschaften machen Titan ideal für Anwendungen in MRT-Geräten und anderen empfindlichen elektronischen Geräten.
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Ermüdungsbeständigkeit: Titan weist eine hervorragende Beständigkeit gegen Metallermüdung auf, entscheidend bei zyklischen Belastungsanwendungen wie Flugzeugteilen.
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(High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
Parameters of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
The “High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target” you’re referring to likely refers to a sputtering target made of titanium and carbon fibers, commonly known as circular Ti/TiC or circular Ti/CaTiC targets.
When it comes to PVD (Physical Vapor Deposition) coating machines, the target material plays a crucial role in determining the efficiency of the process and the quality of the coated films. In general, high-purity targets require lower contamination levels, so they can achieve better control over the chemical composition of the coatings.
Zum Beispiel, high-purity circular Ti/TiC targets typically have a lower Tc (Thiolate Content) than other types of targets, which reduces the formation of unwanted by-products such as carbons and. This can lead to improved surface quality and higher reliability of the coated film.
On the other hand, high-purity circular Ti/CaTiC targets may be more expensive to produce due to their higher purity requirements. Jedoch, their smaller size and lower weight also make them easier to handle and store, making them well-suited for use in a wide range of applications where space and weight constraints are important factors.
It’s important to note that the specific parameter values used will depend on the particular PVD coating machine being used and its intended application. It’s best to consult with the manufacturer or a qualified expert for more information on the target material and its optimal parameters for your specific situation.
(High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
Unternehmensprofil
Metal Mummy ist ein vertrauenswürdiger globaler Lieferant chemischer Materialien & Hersteller mit über 12 Jahren Erfahrung in der Bereitstellung hochwertiger Kupfer- und verwandter Produkte.
Das Unternehmen verfügt über eine professionelle technische Abteilung und eine Abteilung für Qualitätsüberwachung, ein gut ausgestattetes Labor, und ausgestattet mit fortschrittlicher Testausrüstung und einem Kundendienstzentrum nach dem Verkauf.
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FAQ
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