Overview of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
تیتانیوم (از) یک عنصر شیمیایی با عدد اتمی است 22 و در جدول تناوبی به صورت Ti نمادین است. این فلز به گروه فلزات واسطه تعلق دارد و به دلیل چگالی کم آن شناخته شده است, نسبت استحکام به وزن بالا, و مقاومت در برابر خوردگی استثنایی. کشف شده در 1791 توسط ویلیام گرگور, تیتانیوم به دلیل ترکیب منحصربفرد خواص آن به یک ماده حیاتی در صنایع متعدد تبدیل شده است.
Feature of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
-
چگالی کم و استحکام بالا: تیتانیوم در مورد 45% سبکتر از فولاد اما دارای استحکام مشابهی است, آن را برای کاربردهایی که کاهش وزن بدون به خطر انداختن قدرت حیاتی است، ایده آل می کند.
-
مقاومت در برابر خوردگی: این یک لایه اکسید غیرفعال تشکیل می دهد که از فلز زیرین در برابر مواد خورنده محافظت می کند, از جمله آب دریا و کلر, آن را در برابر خوردگی بسیار مقاوم می کند.
-
زیست سازگاری: تیتانیوم به خوبی توسط بدن انسان تحمل می شود و واکنش های نامطلوبی ایجاد نمی کند, به همین دلیل است که به طور گسترده در ایمپلنت های پزشکی و ابزار جراحی استفاده می شود.
-
مقاومت در برابر حرارت: با نقطه ذوب 1668 درجه سانتیگراد (3,034درجه فارنهایت), تیتانیوم می تواند دمای بالا را تحمل کند, آن را برای کاربردهای هوافضا و خودرو مناسب می کند.
-
غیر مغناطیسی و غیر سمی: این ویژگی ها تیتانیوم را برای کاربرد در دستگاه های MRI و سایر دستگاه های الکترونیکی حساس ایده آل می کند.
-
مقاومت در برابر خستگی: تیتانیوم مقاومت بسیار خوبی در برابر خستگی فلز نشان می دهد, در کاربردهای بارگیری چرخه ای مانند قطعات هواپیما بسیار مهم است.
.
(خلوص بالا 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
Parameters of High Purity 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine
را “خلوص بالا 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target” you’re referring to likely refers to a sputtering target made of titanium and carbon fibers, commonly known as circular Ti/TiC or circular Ti/CaTiC targets.
When it comes to PVD (Physical Vapor Deposition) coating machines, the target material plays a crucial role in determining the efficiency of the process and the quality of the coated films. In general, high-purity targets require lower contamination levels, so they can achieve better control over the chemical composition of the coatings.
به عنوان مثال, high-purity circular Ti/TiC targets typically have a lower Tc (Thiolate Content) than other types of targets, which reduces the formation of unwanted by-products such as carbons and. This can lead to improved surface quality and higher reliability of the coated film.
On the other hand, high-purity circular Ti/CaTiC targets may be more expensive to produce due to their higher purity requirements. با این حال, their smaller size and lower weight also make them easier to handle and store, making them well-suited for use in a wide range of applications where space and weight constraints are important factors.
It’s important to note that the specific parameter values used will depend on the particular PVD coating machine being used and its intended application. It’s best to consult with the manufacturer or a qualified expert for more information on the target material and its optimal parameters for your specific situation.
(خلوص بالا 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
مشخصات شرکت
Metal Mummy یک تامین کننده قابل اعتماد جهانی مواد شیمیایی است & تولید کننده با بیش از 12 سال تجربه در ارائه محصولات مسی و اقوام بسیار با کیفیت.
این شرکت دارای یک بخش فنی حرفه ای و بخش نظارت بر کیفیت است, یک آزمایشگاه مجهز, و مجهز به تجهیزات تست پیشرفته و مرکز خدمات پس از فروش مشتریان.
اگر به دنبال پودر فلز با کیفیت و محصولات نسبی هستید, لطفا با ما تماس بگیرید یا برای ارسال درخواست بر روی محصولات مورد نیاز کلیک کنید.
روش های پرداخت
L/C, T/T, وسترن یونیون, پی پال, کارت اعتباری و غیره.
حمل و نقل
می توان آن را از طریق دریا حمل کرد, از طریق هوا, یا با افشای ASAP به محض دریافت بازپرداخت.
سوالات متداول
(خلوص بالا 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target for PVD coating machine)
