Overview of Whole titanium sputtering target
Titanium (Fan) is in gemysk elemint mei it atoomnûmer 22 en wurdt symbolisearre as Ti op it periodyk systeem. It heart ta de groep oergongsmetalen en stiet bekend om syn lege tichtheid, hege sterkte-to-gewicht ratio, en útsûnderlike corrosie ferset. Untdutsen yn 1791 troch William Gregor, titanium is in fitaal materiaal wurden yn ferskate yndustry troch syn unike kombinaasje fan eigenskippen.
Feature of Whole titanium sputtering target
-
Lege tichtens en hege sterkte: Titanium giet oer 45% lichter as stiel, mar hat ferlykbere sterkte, wêrtroch't it ideaal is foar applikaasjes wêr't gewichtsreduksje kritysk is sûnder krêft te kompromittearjen.
-
Corrosie Resistance: It foarmet in passive okside laach dy't beskermet it ûnderlizzende metaal út corrosive stoffen, ynklusyf seewetter en chloor, wêrtroch it tige resistint is foar korrosje.
-
Biokompatibiliteit: Titanium wurdt goed tolerearre troch it minsklik lichem en feroarsaket gjin neidielige reaksjes, dat is de reden dat it in soad brûkt wurdt yn medyske ymplantaten en sjirurgyske ynstruminten.
-
Heat Resistance: Mei in smeltpunt fan 1.668 °C (3,034°F), titanium kin fernear hege temperatueren, wêrtroch it geskikt is foar loft- en auto-tapassingen.
-
Non-magnetysk en net-giftig: Dizze eigenskippen meitsje titanium ideaal foar tapassingen yn MRI-masines en oare gefoelige elektroanyske apparaten.
-
Fatigue Resistance: Titanium toant poerbêst ferset tsjin metalen wurgens, krúsjaal yn cyclyske laden applikaasjes lykas fleantúchdielen.
.
(Whole titanium sputtering target)
Parameters of Whole titanium sputtering target
The parameters of a whole titanium sputtering target refer to the factors that influence the performance and behavior of the target during sputtering processes. Some of the key parameters include:
1. Cross-section area: The cross-sectional area of the target determines its surface area, which affects the number of ions that can be impinging on it per unit time.
2. Critical current density: The critical current density is the minimum amount of current needed for ionization and deposition to occur at a given temperature. It is an important parameter for controlling the rate of sputtering processes.
3. Sputtering velocity: The sputtering velocity determines how quickly ions with different energies and charges can collide with the target. A higher sputtering velocity results in faster ionization and deposition rates.
4. Temperature: The temperature of the target determines the rate of sputtering and the properties of the deposited layer. Higher temperatures result in more rapid sputtering and deposition, but may also lead to greater thermal stress and damage to the material being sputtered.
5. Characteristic sputtering parameters: These are specific characteristics of the sputtering process that depend on the above parameters, such as the deposition rate, grain size, and purity of the deposited layer.
6. Beam profile: The beam profile of the sputtering beam is also important, as it affects the diffraction pattern of the deposited layer and can affect the thickness of the deposit.
Overall, understanding these parameters is crucial for optimizing the performance of a whole titanium sputtering target and achieving desired properties for industrial applications.
(Whole titanium sputtering target)
Company Profile
Metal Mummy is in fertroude wrâldwide leveransier fan gemysk materiaal & fabrikant mei mear dan 12 jier ûnderfining yn it leverjen fan super heechweardige koper- en sibbenprodukten.
It bedriuw hat in profesjonele technyske ôfdieling en Quality Supervision Department, in goed ynrjochte laboratoarium, en foarsjoen fan avansearre test apparatuer en nei-ferkeap klanteservice sintrum.
As jo op syk binne nei metaalpoeder fan hege kwaliteit en relative produkten, nim dan gerêst kontakt mei ús op of klikje op de nedige produkten om in fraach te stjoeren.
Payment Methods
L/C, T/T, Western Union, Paypal, Kredytkaart ensfh.
Ferstjoering
It koe oer see ferstjoerd wurde, troch loft, of troch reveal ASAP sa gau as werombetelling ûntfangst.
FAQ
(Whole titanium sputtering target)
