Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
ટાઇટેનિયમ (ના) અણુ નંબર સાથેનું રાસાયણિક તત્વ છે 22 અને સામયિક કોષ્ટક પર Ti તરીકે પ્રતીકિત છે. તે સંક્રમણ ધાતુઓના જૂથ સાથે સંબંધિત છે અને તેની ઓછી ઘનતા માટે જાણીતું છે, ઉચ્ચ તાકાત-થી-વજન ગુણોત્તર, અને અસાધારણ કાટ પ્રતિકાર. માં શોધાયેલ 1791 વિલિયમ ગ્રેગોર દ્વારા, તેના ગુણધર્મોના અનન્ય સંયોજનને કારણે અસંખ્ય ઉદ્યોગોમાં ટાઇટેનિયમ એક મહત્વપૂર્ણ સામગ્રી બની ગયું છે..
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
ઓછી ઘનતા અને ઉચ્ચ શક્તિ: ટાઇટેનિયમ વિશે છે 45% સ્ટીલ કરતાં હળવા પરંતુ સમાન તાકાત ધરાવે છે, તેને એપ્લીકેશન માટે આદર્શ બનાવે છે જ્યાં તાકાત સાથે સમાધાન કર્યા વિના વજન ઘટાડવું મહત્વપૂર્ણ છે.
-
કાટ પ્રતિકાર: તે નિષ્ક્રિય ઓક્સાઇડ સ્તર બનાવે છે જે અંતર્ગત ધાતુને કાટ લાગતા પદાર્થોથી રક્ષણ આપે છે, સમુદ્રના પાણી અને ક્લોરિન સહિત, તેને કાટ માટે અત્યંત પ્રતિરોધક બનાવે છે.
-
જૈવ સુસંગતતા: ટાઇટેનિયમ માનવ શરીર દ્વારા સારી રીતે સહન કરવામાં આવે છે અને પ્રતિકૂળ પ્રતિક્રિયાઓનું કારણ નથી, તેથી જ તેનો વ્યાપક ઉપયોગ તબીબી પ્રત્યારોપણ અને સર્જિકલ સાધનોમાં થાય છે.
-
ગરમી પ્રતિકાર: 1,668°C ના ગલનબિંદુ સાથે (3,034°F), ટાઇટેનિયમ ઊંચા તાપમાનનો સામનો કરી શકે છે, તેને એરોસ્પેસ અને ઓટોમોટિવ એપ્લીકેશન માટે યોગ્ય બનાવે છે.
-
બિન-ચુંબકીય અને બિન-ઝેરી: આ ગુણધર્મો MRI મશીનો અને અન્ય સંવેદનશીલ ઇલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણોમાં એપ્લિકેશન માટે ટાઇટેનિયમને આદર્શ બનાવે છે.
-
થાક પ્રતિકાર: ટાઇટેનિયમ મેટલ થાક માટે ઉત્તમ પ્રતિકાર દર્શાવે છે, એરક્રાફ્ટના ભાગો જેવા ચક્રીય લોડિંગ એપ્લિકેશન્સમાં નિર્ણાયક.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, અને શુદ્ધતા. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. For example, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
કંપની પ્રોફાઇલ
મેટલ મમી વિશ્વસનીય વૈશ્વિક રાસાયણિક સામગ્રી સપ્લાયર છે & સુપર ઉચ્ચ-ગુણવત્તાવાળા કોપર અને સંબંધી ઉત્પાદનો પ્રદાન કરવામાં 12-વર્ષનો અનુભવ ધરાવતા ઉત્પાદક.
કંપની પાસે વ્યાવસાયિક તકનીકી વિભાગ અને ગુણવત્તા દેખરેખ વિભાગ છે, એક સુસજ્જ પ્રયોગશાળા, અને અદ્યતન પરીક્ષણ સાધનો અને વેચાણ પછીના ગ્રાહક સેવા કેન્દ્રથી સજ્જ.
જો તમે ઉચ્ચ-ગુણવત્તાવાળા મેટલ પાવડર અને સંબંધિત ઉત્પાદનો શોધી રહ્યાં છો, કૃપા કરીને અમારો સંપર્ક કરો અથવા તપાસ મોકલવા માટે જરૂરી ઉત્પાદનો પર ક્લિક કરો.
ચુકવણી પદ્ધતિઓ
એલ/સી, ટી/ટી, વેસ્ટર્ન યુનિયન, પેપલ, ક્રેડિટ કાર્ડ વગેરે.
શિપમેન્ટ
તે સમુદ્ર દ્વારા મોકલી શકાય છે, હવા દ્વારા, અથવા ચુકવણીની રસીદ મળતાની સાથે જ જલદી જાહેર કરીને.
FAQ
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
