High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

टाइटेनियम (का) परमाणु क्रमांक वाला एक रासायनिक तत्व है 22 और आवर्त सारणी पर इसे Ti के रूप में दर्शाया गया है. यह संक्रमण धातु समूह से संबंधित है और अपने कम घनत्व के लिए जाना जाता है, उच्च शक्ति-से-वजन अनुपात, और असाधारण संक्षारण प्रतिरोध. में खोजा गया 1791 विलियम ग्रेगर द्वारा, गुणों के अनूठे संयोजन के कारण टाइटेनियम कई उद्योगों में एक महत्वपूर्ण सामग्री बन गया है.

Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

1. कम घनत्व और उच्च शक्ति: टाइटेनियम के बारे में है 45% स्टील से हल्का लेकिन समान ताकत रखता है, इसे उन अनुप्रयोगों के लिए आदर्श बनाना जहां ताकत से समझौता किए बिना वजन कम करना महत्वपूर्ण है.

2. संक्षारण प्रतिरोध: यह एक निष्क्रिय ऑक्साइड परत बनाता है जो अंतर्निहित धातु को संक्षारक पदार्थों से बचाता है, समुद्री जल और क्लोरीन सहित, इसे संक्षारण के प्रति अत्यधिक प्रतिरोधी बनाता है.

3. जैव: टाइटेनियम मानव शरीर द्वारा अच्छी तरह से सहन किया जाता है और प्रतिकूल प्रतिक्रिया का कारण नहीं बनता है, यही कारण है कि इसका व्यापक रूप से चिकित्सा प्रत्यारोपण और शल्य चिकित्सा उपकरणों में उपयोग किया जाता है.

4. गर्मी प्रतिरोध: 1,668°C के गलनांक के साथ (3,034°F), टाइटेनियम उच्च तापमान का सामना कर सकता है, इसे एयरोस्पेस और ऑटोमोटिव अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त बनाना.

5. गैर-चुंबकीय और गैर-विषाक्त: ये गुण टाइटेनियम को एमआरआई मशीनों और अन्य संवेदनशील इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में अनुप्रयोगों के लिए आदर्श बनाते हैं.

6. थकान प्रतिरोध: टाइटेनियम धातु की थकान के प्रति उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदर्शित करता है, विमान के पुर्जों जैसे चक्रीय लोडिंग अनुप्रयोगों में महत्वपूर्ण.

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(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)

Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:

* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, और पवित्रता. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* अशुद्धियों: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. उदाहरण के लिए, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.

It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.

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अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न

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