Overview of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
Titán (Of) rendszámú kémiai elem 22 és a periódusos rendszerben Ti-ként szimbolizálják. Az átmeneti fémek csoportjába tartozik, és alacsony sűrűségéről ismert, magas szilárdság/tömeg arány, és kivételes korrózióállóság. Felfedezték ben 1791 írta William Gregor, A titán számos iparágban létfontosságú anyaggá vált egyedülálló tulajdonságainak kombinációja miatt.
Feature of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
-
Alacsony sűrűség és nagy szilárdság: A titán kb 45% könnyebb, mint az acél, de hasonló szilárdságú, ideálissá teszi az olyan alkalmazásokhoz, ahol a súlycsökkentés kritikus fontosságú az erő sérelme nélkül.
-
Korrózióállóság: Passzív oxidréteget képez, amely megvédi az alatta lévő fémet a korrozív anyagoktól, beleértve a tengervizet és a klórt, így rendkívül ellenálló a korrózióval szemben.
-
Biokompatibilitás: A titánt az emberi szervezet jól tolerálja, és nem okoz mellékhatásokat, ezért széles körben használják orvosi implantátumokban és sebészeti műszerekben.
-
Hőállóság: Olvadáspontja 1668°C (3,034°F), a titán ellenáll a magas hőmérsékletnek, alkalmassá téve repülőgép- és autóipari alkalmazásokhoz.
-
Nem mágneses és nem mérgező: Ezek a tulajdonságok ideálissá teszik a titánt MRI-gépekben és más érzékeny elektronikus eszközökben való alkalmazásokhoz.
-
Fáradtságállóság: A titán kiválóan ellenáll a fémek fáradásának, döntő fontosságú a ciklikus rakodási alkalmazásokban, mint például a repülőgép-alkatrészek.
.
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
Parameters of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
The “direct 4N purityHIP method” for Ti target and titanium sputtering target is a highly efficient and effective technique that can achieve extremely high purity levels in Ti. This process typically involves the use of a mixture of plasma sources, including a direct beam source and a high energy ion source, to create Ti targets with very low impurities.
The purity level of the Ti target can be significantly improved by using the HIP method, which involves heating the Ti target to extremely high temperatures, creating a plasma pool at the surface of the target. The plasma is then bombarded with ions from a higher-energy source, such as a neutral gas or a special cathode gas, which combine with the plasma to form titanium ions. These titanium ions are then collected and terminated onto the surface of the Ti target, resulting in a highly pure Ti target.
In addition to improving the purity of the Ti target, the HIP method also provides several other advantages over traditional techniques, such as better control over the ionization conditions and higher efficiency in the removal of impurities. By carefully selecting and optimizing the parameters used in this process, it is possible to achieve high purity levels even in cases where impurities may accumulate at the surface of the Ti target.
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
Vállalati profil
A Metal Mummy megbízható globális vegyianyag-szállító & gyártó, aki több mint 12 éves tapasztalattal rendelkezik szuper kiváló minőségű réz és rokon termékek biztosításában.
A cég professzionális műszaki részleggel és minőségfelügyeleti részleggel rendelkezik, jól felszerelt laboratórium, fejlett tesztelő berendezésekkel és értékesítés utáni ügyfélszolgálati központtal felszerelt.
Ha kiváló minőségű fémport és hozzátartozó termékeket keres, Kérjük, forduljon hozzánk bizalommal, vagy kattintson a kívánt termékekre, hogy elküldje érdeklődését.
Fizetési módok
L/C, T/T, Western Union, Paypal, Hitelkártya stb.
Szállítás
Tengeren is szállítható, légi úton, vagy a visszafizetés kézhezvétele után mihamarabb felfedi.
GYIK
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
