Overview of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
Titanio (Di) è un elemento chimico con il numero atomico 22 ed è simboleggiato come Ti nella tavola periodica. Appartiene al gruppo dei metalli di transizione ed è noto per la sua bassa densità, elevato rapporto resistenza/peso, ed eccezionale resistenza alla corrosione. Scoperto nel 1791 di Guglielmo Gregor, il titanio è diventato un materiale vitale in numerosi settori grazie alla sua combinazione unica di proprietà.
Feature of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
-
Bassa densità e alta resistenza: Il titanio riguarda 45% più leggero dell'acciaio ma possiede una resistenza simile, rendendolo ideale per applicazioni in cui la riduzione del peso è fondamentale senza compromettere la resistenza.
-
Resistenza alla corrosione: Forma uno strato di ossido passivo che protegge il metallo sottostante dalle sostanze corrosive, compresa l'acqua di mare e il cloro, rendendolo altamente resistente alla corrosione.
-
Biocompatibilità: Il titanio è ben tollerato dal corpo umano e non causa reazioni avverse, ecco perché è ampiamente utilizzato negli impianti medici e negli strumenti chirurgici.
-
Resistenza al calore: Con un punto di fusione di 1.668°C (3,034°F), il titanio può resistere alle alte temperature, rendendolo adatto per applicazioni aerospaziali e automobilistiche.
-
Non magnetico e non tossico: Queste proprietà rendono il titanio ideale per applicazioni in macchine MRI e altri dispositivi elettronici sensibili.
-
Resistenza alla fatica: Il titanio dimostra un'eccellente resistenza alla fatica del metallo, cruciale nelle applicazioni di carico ciclico come le parti di aeromobili.
.
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
Parameters of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
IL “direct 4N purityHIP method” for Ti target and titanium sputtering target is a highly efficient and effective technique that can achieve extremely high purity levels in Ti. This process typically involves the use of a mixture of plasma sources, including a direct beam source and a high energy ion source, to create Ti targets with very low impurities.
The purity level of the Ti target can be significantly improved by using the HIP method, which involves heating the Ti target to extremely high temperatures, creating a plasma pool at the surface of the target. The plasma is then bombarded with ions from a higher-energy source, such as a neutral gas or a special cathode gas, which combine with the plasma to form titanium ions. These titanium ions are then collected and terminated onto the surface of the Ti target, resulting in a highly pure Ti target.
In addition to improving the purity of the Ti target, the HIP method also provides several other advantages over traditional techniques, such as better control over the ionization conditions and higher efficiency in the removal of impurities. By carefully selecting and optimizing the parameters used in this process, it is possible to achieve high purity levels even in cases where impurities may accumulate at the surface of the Ti target.
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
Profilo Aziendale
Metal Mummy è un fornitore globale affidabile di materiali chimici & produttore con oltre 12 anni di esperienza nella fornitura di prodotti in rame e affini di altissima qualità.
L'azienda dispone di un dipartimento tecnico professionale e di un dipartimento di supervisione della qualità, un laboratorio ben attrezzato, e dotato di apparecchiature di collaudo avanzate e centro di assistenza clienti post-vendita.
Se stai cercando polvere metallica di alta qualità e relativi prodotti, non esitate a contattarci o fare clic sui prodotti necessari per inviare una richiesta.
Metodi di pagamento
L/C, T/T, Unione occidentale, PayPal, Carta di credito ecc.
Spedizione
Potrebbe essere spedito via mare, per via aerea, o rivelandolo al più presto possibile non appena ricevuta il rimborso.
Domande frequenti
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
