Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
Титан (Оның) атомдық нөмірі бар химиялық элемент 22 және периодтық жүйеде Ti ретінде белгіленеді. Ол өтпелі металдар тобына жатады және оның төмен тығыздығымен танымал, жоғары беріктік пен салмақ қатынасы, және ерекше коррозияға төзімділік. жылы ашылған 1791 Уильям Грегор, Титан өзінің бірегей қасиеттерінің арқасында көптеген салаларда маңызды материалға айналды.
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
Төмен тығыздық және жоғары беріктік: Титан туралы 45% lighter than steel but possesses similar strength, making it ideal for applications where weight reduction is critical without compromising strength.
-
Коррозияға төзімділік: It forms a passive oxide layer that protects the underlying metal from corrosive substances, including sea water and chlorine, making it highly resistant to corrosion.
-
Биологиялық үйлесімділік: Titanium is well-tolerated by the human body and doesn’t cause adverse reactions, which is why it’s widely used in medical implants and surgical instruments.
-
Ыстыққа төзімділік: With a melting point of 1,668°C (3,034°F), titanium can withstand high temperatures, making it suitable for aerospace and automotive applications.
-
Non-Magnetic and Non-Toxic: These properties make titanium ideal for applications in MRI machines and other sensitive electronic devices.
-
Fatigue Resistance: Титан металдың шаршауына тамаша қарсылық көрсетеді, ұшақ бөлшектері сияқты циклдік жүктеу қолданбаларында өте маңызды.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, and purity. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. Мысалы, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Компания профилі
Metal Mummy - сенімді жаһандық химиялық материал жеткізушісі & өте жоғары сапалы мыс өнімдерін және туыстарын қамтамасыз етуде 12 жылдан астам тәжірибесі бар өндіруші.
Компанияда кәсіби техникалық бөлім және сапаны бақылау бөлімі бар, жақсы жабдықталған зертхана, және озық сынақ жабдықтарымен және сатылымнан кейінгі халыққа қызмет көрсету орталығымен жабдықталған.
Егер сіз жоғары сапалы металл ұнтағы мен салыстырмалы өнімдерді іздесеңіз, Бізбен байланысыңыз немесе сұрау жіберу үшін қажетті өнімдерді басыңыз.
Төлем әдістері
L/C, Т/Т, Вестерн юнион, Paypal, Несие картасы және т.
жөнелту
Оны теңіз арқылы жеткізуге болады, әуе арқылы, немесе төлемді алған кезде тез арада көрсету арқылы.
Жиі қойылатын сұрақтар
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
