Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
Titanium (Ji) hêmaneke kîmyayî ya bi jimareya atomî ye 22 û li ser tabloya peryodîk wekî Ti tê nîşankirin. Ew ji koma metalên veguhêz e û bi dendika xwe ya kêm tê zanîn, rêjeya hêza-to-weight bilind, û berxwedana korozyonê ya awarte. Keşif kirin li 1791 ji hêla William Gregor ve, titanium ji ber tevliheviya xweya taybetmendiya bêhempa di gelek pîşesaziyan de bûye materyalek girîng.
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
Density kêm û Hêza Bilind: Titanium li ser e 45% ji pola siviktir e lê xwedî hêzek wekhev e, çêkirina wê ji bo serîlêdanên ku kêmkirina giraniyê bêyî ku hêzê tawîz bide krîtîk e.
-
Berxwedana Korozyonê: Ew tebeqeyek oksîdê ya pasîf çêdike ku metala jêrîn ji maddeyên korozor diparêze, ava behrê û klor jî tê de, ku ew li hember korozyonê pir berxwedêr e.
-
Biocompatibility: Tîtanium ji hêla laşê mirov ve baş tê tolerans kirin û nabe sedema reaksiyonên neyînî, ji ber vê yekê ew bi berfirehî di implantên bijîjkî û amûrên cerahî de tê bikar anîn.
-
Berxwedana Germê: Bi xala helandinê 1,668°C (3,034°F), titanium dikare li ser germên bilind bisekinin, çêkirina wê ji bo sepanên hewayî û otomotîvê maqûl e.
-
Ne-magnetîk û ne-jehrî: Van taybetmendiyan titanium ji bo serîlêdanên di makîneyên MRI û amûrên din ên elektronîkî yên hesas de îdeal dike.
-
Berxwedana westandinê: Tîtanium li hember westandina metalê berxwedanek hêja nîşan dide, di sepanên barkirina çerxîkî yên wekî parçeyên balafirê de girîng e.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, û paqijiyê. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Cûreya pêgirtinê: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Nepakiyên: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. Bo nimûne, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Profîla Pargîdaniyê
Metal Mummy dabînkerek materyalê kîmyewî ya gerdûnî ya pêbawer e & hilberîner bi ezmûna zêdetirî 12-salî di peydakirina hilberên sifir û xizmên super-kalîteyê de.
Pargîdanî xwedan dezgehek teknîkî ya profesyonel û Beşa Çavdêriya Kalîteyê ye, laboratûwarek baş-pêkhatî, û bi alavên ceribandinê yên pêşkeftî û navenda karûbarê xerîdar a piştî firotanê ve hatî çêkirin.
Ger hûn li toza metalê ya bi kalîte û hilberên têkildar digerin, ji kerema xwe bi me re têkilî daynin an li ser hilberên hewce bikirtînin da ku lêpirsînek bişînin.
Rêbazên Payment
L/C, T/T, Western Union, Paypal, Karta Krediyê hwd.
Shipment
Ew dikare bi deryayê ve were şandin, bi hewa, an bi ASAP-ê di demek zû de ku wergirtina dravdanê eşkere bikin.
FAQ
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
