Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
Титан (Of) атомдук номери бар химиялык элемент 22 жана мезгилдик таблицада Ti катары символдоштурулган. Ал өткөөл металлдар тобуна кирет жана анын тыгыздыгы аздыгы менен белгилүү, жогорку күч-салмак катышы, жана өзгөчө коррозияга туруктуулугу. жылы табылган 1791 Уильям Грегор тарабынан, Титан касиеттеринин уникалдуу айкалышынан улам көптөгөн тармактарда маанилүү материал болуп калды.
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
Төмөн тыгыздык жана жогорку күч: Титан жөнүндө 45% болоттон жеңил, бирок бирдей күчкө ээ, салмакты азайтуу күчүн бузбастан өтө маанилүү болгон колдонмолор үчүн идеалдуу кылат.
-
Коррозияга каршылык: Ал астындагы металлды жегич заттардан коргогон пассивдүү оксид катмарын түзөт, анын ичинде деңиз суусу жана хлор, аны коррозияга өтө туруктуу кылат.
-
Биологиялык шайкештик: Титан адам организми тарабынан жакшы кабыл алынат жана терс реакцияларды жаратпайт, ошондуктан ал медициналык имплантаттар жана хирургиялык аспаптарда кеңири колдонулат.
-
Жылуулук туруктуулугу: Эрүү температурасы 1,668°С (3,034°F), титан жогорку температурага туруштук бере алат, аэрокосмостук жана автомобиль колдонмолору үчүн ылайыктуу кылып.
-
Магниттик эмес жана уулуу эмес: Бул касиеттери титанды MRI машиналарында жана башка сезимтал электрондук шаймандарда колдонуу үчүн идеалдуу кылат.
-
Чарчоого каршылык: Титан металл чарчоо үчүн мыкты каршылык көрсөтөт, учактын тетиктери сыяктуу циклдик жүктөө колдонмолорунда абдан маанилүү.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, тыгыздыгы, жана тазалык. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. Мисалы, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Компаниянын профили
Metal Mummy ишенимдүү дүйнөлүк химиялык материалдарды жеткирүүчү болуп саналат & супер жогорку сапаттагы жез жана туугандар азыктарын камсыз кылуу боюнча 12 жылдан ашуун тажрыйбасы бар өндүрүүчүсү.
Компаниянын кесиптик техникалык бөлүмү жана Сапатты көзөмөлдөө бөлүмү бар, жакшы жабдылган лаборатория, жана өнүккөн сыноо жабдуулары жана сатуудан кийинки кардарларды тейлөө борбору менен жабдылган.
Сиз жогорку сапаттагы металл порошок жана салыштырмалуу буюмдарды издеп жаткан болсо, Сураныч, биз менен байланышуудан тартынбаңыз же суроо-талап жөнөтүү үчүн керектүү өнүмдөрдү басыңыз.
Төлөм ыкмалары
L/C, T/T, Western Union, Paypal, Кредиттик карта ж.б.
жөнөтүү
Аны деңиз аркылуу жөнөтсө болот, аба менен, же төлөмдү алгандан кийин ASAP көрсөтүү менен.
Көп берилүүчү суроолор
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
