Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
Titāns (No) ir ķīmiskais elements ar atomskaitli 22 un periodiskajā tabulā simbolizē kā Ti. Tas pieder pie pārejas metālu grupas un ir pazīstams ar savu zemo blīvumu, augsta stiprības un svara attiecība, un izcila izturība pret koroziju. Atklāts gadā 1791 autors Viljams Gregors, titāns ir kļuvis par būtisku materiālu daudzās nozarēs, pateicoties tā unikālajai īpašību kombinācijai.
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
Zems blīvums un augsta izturība: Titāns ir par 45% vieglāks par tēraudu, bet tam ir līdzīga izturība, padarot to ideāli piemērotu lietojumiem, kur svara samazināšana ir kritiska, nesamazinot izturību.
-
Izturība pret koroziju: Tas veido pasīvu oksīda slāni, kas pasargā apakšā esošo metālu no kodīgām vielām, ieskaitot jūras ūdeni un hloru, padarot to ļoti izturīgu pret koroziju.
-
Bioloģiskā saderība: Cilvēka ķermenis labi panes titānu un neizraisa nevēlamas reakcijas, tāpēc to plaši izmanto medicīniskajos implantos un ķirurģiskajos instrumentos.
-
Karstumizturība: Ar kušanas temperatūru 1668°C (3,034°F), titāns var izturēt augstu temperatūru, padarot to piemērotu kosmosa un automobiļu lietojumiem.
-
Nemagnētisks un netoksisks: Šīs īpašības padara titānu ideālu lietošanai MRI iekārtās un citās jutīgās elektroniskās ierīcēs.
-
Izturība pret nogurumu: Titānam ir lieliska izturība pret metāla nogurumu, izšķiroša nozīme cikliskās iekraušanas lietojumos, piemēram, gaisa kuģu daļās.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, un tīrību. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Piemaisījumi: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. Piemēram, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Uzņēmuma profils
Metal Mummy ir uzticams globāls ķīmisko materiālu piegādātājs & ražotājs ar vairāk nekā 12 gadu pieredzi īpaši augstas kvalitātes vara un radinieku izstrādājumu nodrošināšanā.
Uzņēmumam ir profesionāla tehniskā nodaļa un Kvalitātes uzraudzības nodaļa, labi aprīkota laboratorija, un aprīkots ar modernu testēšanas aprīkojumu un pēcpārdošanas klientu apkalpošanas centru.
Ja meklējat augstas kvalitātes metāla pulveri un līdzīgus izstrādājumus, lūdzu, sazinieties ar mums vai noklikšķiniet uz nepieciešamajiem produktiem, lai nosūtītu pieprasījumu.
Maksājumu veidi
L/C, T/T, Western Union, Paypal, Kredītkarte utt.
Sūtījums
To varētu nosūtīt pa jūru, pa gaisu, vai atklāt pēc iespējas ātrāk pēc atmaksas saņemšanas.
FAQ
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
