Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
Титан (-ийн) нь атомын дугаартай химийн элемент юм 22 бөгөөд үелэх систем дээр Ti гэж тэмдэглэгдсэн байдаг. Энэ нь шилжилтийн металлын бүлэгт багтдаг бөгөөд бага нягтралаараа алдартай, хүч чадал, жингийн өндөр харьцаа, мөн онцгой зэврэлтэнд тэсвэртэй. онд илрүүлсэн 1791 Уильям Грегор, Өвөрмөц шинж чанаруудын улмаас титан нь олон салбарт амин чухал материал болжээ.
Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
-
Бага нягтрал, өндөр бат бэх: Титан нь ойролцоогоор 45% гангаас хөнгөн боловч ижил хүч чадалтай, хүч чадлыг алдагдуулахгүйгээр жингээ хасах нь чухал ач холбогдолтой хэрэглээнд тохиромжтой.
-
Зэврэлтэнд тэсвэртэй байдал: Энэ нь үндсэн металыг идэмхий бодисоос хамгаалдаг идэвхгүй ислийн давхарга үүсгэдэг, далайн ус, хлор зэрэг орно, зэврэлтэнд өндөр тэсвэртэй болгодог.
-
Биологийн нийцтэй байдал: Титан нь хүний биед сайн тэсвэртэй бөгөөд сөрөг нөлөө үзүүлдэггүй, ийм учраас эмнэлгийн суулгац, мэс заслын багаж хэрэгсэлд өргөн хэрэглэгддэг.
-
Дулааны эсэргүүцэл: 1,668°С хайлах цэгтэй (3,034°F), титан нь өндөр температурыг тэсвэрлэх чадвартай, сансрын болон автомашины хэрэглээнд тохиромжтой болгодог.
-
Соронзон бус, хоргүй: Эдгээр шинж чанарууд нь титаныг MRI төхөөрөмж болон бусад эмзэг электрон төхөөрөмжүүдэд ашиглахад тохиромжтой болгодог.
-
Ядаргааны эсэргүүцэл: Титан нь металлын ядаргаанд маш сайн тэсвэртэй байдаг, агаарын хөлгийн эд анги гэх мэт мөчлөгийн ачааллын хэрэглээнд чухал ач холбогдолтой.
.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target
The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:
* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, ба цэвэр ариун байдал. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. Жишээ нь, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.
It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
Компанийн танилцуулга
Металл Мумми бол дэлхийн химийн материалын найдвартай ханган нийлүүлэгч юм & 12 гаруй жилийн туршлагатай, өндөр чанартай зэс, төрөл төрөгсөд бүтээгдэхүүнээр хангадаг үйлдвэрлэгч.
Тус компани нь мэргэжлийн техникийн алба, Чанарын хяналтын хэлтэстэй, сайн тоноглогдсон лаборатори, дэвшилтэт туршилтын төхөөрөмж, борлуулалтын дараах харилцагчийн үйлчилгээний төвөөр тоноглогдсон.
Хэрэв та өндөр чанартай металл нунтаг болон харьцангуй бүтээгдэхүүн хайж байгаа бол, Бидэнтэй холбогдож эсвэл шаардлагатай бүтээгдэхүүн дээр дарж лавлагаа илгээнэ үү.
Төлбөрийн аргууд
L/C, Т/Т, Western Union, Paypal, Зээлийн карт гэх мэт.
Тээвэрлэлт
Үүнийг далайгаар тээвэрлэж болно, агаараар, эсвэл эргэн төлөлтийг хүлээн авмагц нэн даруй мэдэгдэх замаар.
Түгээмэл асуулт
(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)
