High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ (ਦੇ) ਪਰਮਾਣੂ ਨੰਬਰ ਵਾਲਾ ਇੱਕ ਰਸਾਇਣਕ ਤੱਤ ਹੈ 22 ਅਤੇ ਆਵਰਤੀ ਸਾਰਣੀ ਵਿੱਚ Ti ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਤੀਕ ਹੈ. ਇਹ ਪਰਿਵਰਤਨ ਧਾਤ ਦੇ ਸਮੂਹ ਨਾਲ ਸਬੰਧਤ ਹੈ ਅਤੇ ਇਸਦੀ ਘੱਟ ਘਣਤਾ ਲਈ ਜਾਣਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਉੱਚ ਤਾਕਤ-ਤੋਂ-ਭਾਰ ਅਨੁਪਾਤ, ਅਤੇ ਬੇਮਿਸਾਲ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ. ਵਿੱਚ ਖੋਜਿਆ ਗਿਆ 1791 ਵਿਲੀਅਮ ਗ੍ਰੇਗਰ ਦੁਆਰਾ, ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਆਪਣੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੇ ਵਿਲੱਖਣ ਸੁਮੇਲ ਕਾਰਨ ਬਹੁਤ ਸਾਰੇ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਣ ਸਮੱਗਰੀ ਬਣ ਗਿਆ ਹੈ.

Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

1. ਘੱਟ ਘਣਤਾ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਕਤ: ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਬਾਰੇ ਹੈ 45% ਸਟੀਲ ਨਾਲੋਂ ਹਲਕਾ ਪਰ ਸਮਾਨ ਤਾਕਤ ਰੱਖਦਾ ਹੈ, ਇਸ ਨੂੰ ਉਹਨਾਂ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਆਦਰਸ਼ ਬਣਾਉਣਾ ਜਿੱਥੇ ਤਾਕਤ ਨਾਲ ਸਮਝੌਤਾ ਕੀਤੇ ਬਿਨਾਂ ਭਾਰ ਘਟਾਉਣਾ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਹੈ.

2. ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ: ਇਹ ਇੱਕ ਪੈਸਿਵ ਆਕਸਾਈਡ ਪਰਤ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ ਜੋ ਅੰਦਰਲੀ ਧਾਤ ਨੂੰ ਖੋਰਦਾਰ ਪਦਾਰਥਾਂ ਤੋਂ ਬਚਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਸਮੁੰਦਰੀ ਪਾਣੀ ਅਤੇ ਕਲੋਰੀਨ ਸਮੇਤ, ਇਸ ਨੂੰ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਰੋਧਕ ਬਣਾਉਣਾ.

3. ਜੀਵ ਅਨੁਕੂਲਤਾ: ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਮਨੁੱਖੀ ਸਰੀਰ ਦੁਆਰਾ ਚੰਗੀ ਤਰ੍ਹਾਂ ਬਰਦਾਸ਼ਤ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਪ੍ਰਤੀਕੂਲ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆਵਾਂ ਦਾ ਕਾਰਨ ਨਹੀਂ ਬਣਦਾ, ਇਸ ਲਈ ਇਹ ਮੈਡੀਕਲ ਇਮਪਲਾਂਟ ਅਤੇ ਸਰਜੀਕਲ ਯੰਤਰਾਂ ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ.

4. ਗਰਮੀ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ: 1,668°C ਦੇ ਪਿਘਲਣ ਵਾਲੇ ਬਿੰਦੂ ਦੇ ਨਾਲ (3,034°F), ਟਾਇਟੇਨੀਅਮ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਦਾ ਸਾਮ੍ਹਣਾ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਇਸ ਨੂੰ ਏਰੋਸਪੇਸ ਅਤੇ ਆਟੋਮੋਟਿਵ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਢੁਕਵਾਂ ਬਣਾਉਣਾ.

5. ਗੈਰ-ਚੁੰਬਕੀ ਅਤੇ ਗੈਰ-ਜ਼ਹਿਰੀਲੇ: ਇਹ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਐਮਆਰਆਈ ਮਸ਼ੀਨਾਂ ਅਤੇ ਹੋਰ ਸੰਵੇਦਨਸ਼ੀਲ ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨਿਕ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਨੂੰ ਆਦਰਸ਼ ਬਣਾਉਂਦੀਆਂ ਹਨ.

6. ਥਕਾਵਟ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ: ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਧਾਤ ਦੀ ਥਕਾਵਟ ਲਈ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਵਿਰੋਧ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਸਾਈਕਲਿਕ ਲੋਡਿੰਗ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਏਅਰਕ੍ਰਾਫਟ ਪਾਰਟਸ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ.

.

(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)

Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:

* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. ਉਦਾਹਰਣ ਲਈ, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.

It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.

(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)

ਕੰਪਨੀ ਪ੍ਰੋਫਾਇਲ

ਮੈਟਲ ਮਮੀ ਇੱਕ ਭਰੋਸੇਯੋਗ ਗਲੋਬਲ ਰਸਾਇਣਕ ਸਮੱਗਰੀ ਸਪਲਾਇਰ ਹੈ & ਸੁਪਰ ਉੱਚ-ਗੁਣਵੱਤਾ ਵਾਲੇ ਤਾਂਬੇ ਅਤੇ ਰਿਸ਼ਤੇਦਾਰਾਂ ਦੇ ਉਤਪਾਦ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਨ ਵਿੱਚ 12-ਸਾਲ ਤੋਂ ਵੱਧ ਅਨੁਭਵ ਵਾਲਾ ਨਿਰਮਾਤਾ.

ਕੰਪਨੀ ਕੋਲ ਇੱਕ ਪੇਸ਼ੇਵਰ ਤਕਨੀਕੀ ਵਿਭਾਗ ਅਤੇ ਗੁਣਵੱਤਾ ਨਿਗਰਾਨੀ ਵਿਭਾਗ ਹੈ, ਇੱਕ ਚੰਗੀ ਤਰ੍ਹਾਂ ਲੈਸ ਪ੍ਰਯੋਗਸ਼ਾਲਾ, ਅਤੇ ਉੱਨਤ ਟੈਸਟਿੰਗ ਉਪਕਰਣ ਅਤੇ ਵਿਕਰੀ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਦੇ ਗਾਹਕ ਸੇਵਾ ਕੇਂਦਰ ਨਾਲ ਲੈਸ ਹੈ.

ਜੇ ਤੁਸੀਂ ਉੱਚ-ਗੁਣਵੱਤਾ ਵਾਲੇ ਮੈਟਲ ਪਾਊਡਰ ਅਤੇ ਸੰਬੰਧਿਤ ਉਤਪਾਦਾਂ ਦੀ ਭਾਲ ਕਰ ਰਹੇ ਹੋ, ਕਿਰਪਾ ਕਰਕੇ ਸਾਡੇ ਨਾਲ ਸੰਪਰਕ ਕਰੋ ਜਾਂ ਜਾਂਚ ਭੇਜਣ ਲਈ ਲੋੜੀਂਦੇ ਉਤਪਾਦਾਂ 'ਤੇ ਕਲਿੱਕ ਕਰੋ.

ਭੁਗਤਾਨ ਵਿਧੀਆਂ

L/C, ਟੀ/ਟੀ, ਵੇਸਟਰਨ ਯੂਨੀਅਨ, ਪੇਪਾਲ, ਕ੍ਰੈਡਿਟ ਕਾਰਡ ਆਦਿ.

ਸ਼ਿਪਮੈਂਟ

ਇਹ ਸਮੁੰਦਰ ਦੁਆਰਾ ਭੇਜਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਹਵਾ ਦੁਆਰਾ, ਜਾਂ ਮੁੜ-ਭੁਗਤਾਨ ਦੀ ਰਸੀਦ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਜਲਦੀ ਤੋਂ ਜਲਦੀ ਪ੍ਰਗਟ ਕਰਕੇ.

FAQ

(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)