High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

Overview of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

ٽائيٽينيم (جي) ايٽمي نمبر سان گڏ هڪ ڪيميائي عنصر آهي 22 ۽ پيراڊيڪ ٽيبل تي Ti جي علامت آهي. اهو منتقلي دھاتن جي گروپ سان تعلق رکي ٿو ۽ ان جي گهٽ کثافت لاء مشهور آهي, اعلي طاقت کان وزن جي نسبت, ۽ غير معمولي corrosion مزاحمت. ۾ دريافت ڪيو 1791 وليم گريگور طرفان, ٽائيٽيم ڪيترن ئي صنعتن ۾ هڪ اهم مواد بڻجي چڪو آهي ڇاڪاڻ ته ان جي ملڪيت جي منفرد ميلاپ جي ڪري.

Feature of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

1. گھٽ کثافت ۽ اعلي طاقت: Titanium جي باري ۾ آهي 45% فولاد کان وڌيڪ هلڪو، پر ساڳي طاقت رکي ٿو, ان کي ايپليڪيشنن لاءِ مثالي بڻائڻ جتي وزن گھٽائڻ ضروري آهي بغير طاقت سان سمجهوتو ڪرڻ.

2. Corrosion مزاحمت: اهو هڪ غير فعال آڪسائيڊ پرت ٺاهيندو آهي جيڪو هيٺئين ڌاتو کي corrosive مادي کان بچائيندو آهي, سمنڊ جو پاڻي ۽ کلورين سميت, ان کي corrosion لاء انتهائي مزاحمتي بنائڻ.

3. حياتياتي مطابقت: Titanium انساني جسم پاران چڱي طرح برداشت ڪيو ويو آهي ۽ منفي ردعمل جو سبب ناهي, اهو ئي سبب آهي ته اهو وڏي پيماني تي طبي امپلانٽس ۽ جراحي آلات ۾ استعمال ٿيندو آهي.

4. گرمي جي مزاحمت: 1,668 ° C جي پگھلڻ واري نقطي سان (3,034°F), titanium اعلي گرمي پد کي برداشت ڪري سگهي ٿو, ان کي ايرو اسپيس ۽ گاڏين جي ايپليڪيشنن لاءِ موزون بڻائڻ.

5. غير مقناطيسي ۽ غير زهر: اهي خاصيتون ٽائيٽيم کي ايم آر آئي مشينن ۽ ٻين حساس اليڪٽرانڪ ڊوائيسز ۾ ايپليڪيشنن لاء مثالي بڻائين ٿيون.

6. ٿڪ جي مزاحمت: Titanium ڌاتو ٿڪائڻ لاء شاندار مزاحمت ڏيکاري ٿو, سائيڪل جي لوڊشيڊنگ ايپليڪيشنن ۾ اهم آهي جهڙوڪ جهاز جا حصا.

.

(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)

Parameters of High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target

The high purity 3N titanium sputtering target and the titanium round target have several parameters that can affect their performance as sputtering targets. Some of these parameters include:

* Material quality: The material used in the target determines its properties such as melting point, density, ۽ پاڪائي. Higher purity materials typically have better sputtering yields.
* Tungsten content: Tungsten is an essential component of the titanium sputtering target. Its presence affects the temperature at which titanium ions are vaporized and then sputtered onto the substrate.
* Coating type: The coating on the target can affect its properties, such as the passivation layer that forms between titanium ions and the substrate surface. Different coatings can also provide different chemical reactions for sputtering.
* Impurities: impurities in the material or coating can reduce the performance of the target. مثال طور, impurities in the TiO2 coating can reduce the sputtering yield by blocking ion flow.

It’s important to note that the specific parameters that affect the performance of the target will depend on the desired application and the type of target being used. It’s best to consult with experts in the field for guidance on selecting and optimizing a suitable target.

(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)

ڪمپني پروفائل

ڌاتو ممي هڪ قابل اعتماد عالمي ڪيميائي مواد فراهم ڪندڙ آهي & ٺاهيندڙ 12 سالن کان وڌيڪ تجربو سان سپر اعلي معيار جي ٽامي ۽ مائٽن جي شين کي مهيا ڪرڻ ۾.

ڪمپني هڪ پیشہ ور ٽيڪنيڪل ڊپارٽمينٽ ۽ معيار جي نگراني ڊپارٽمينٽ آهي, هڪ چڱي طرح ليس ليبارٽري, ۽ جديد جاچ سامان سان ليس ۽ پوء-سيلز ڪسٽمر سروس سينٽر.

جيڪڏهن توهان ڳولي رهيا آهيو اعلي معيار جي ڌاتو پائوڊر ۽ لاڳاپيل مصنوعات, مهرباني ڪري اسان سان رابطو ڪرڻ لاء آزاد محسوس ڪريو يا انڪوائري موڪلڻ لاء گهربل شين تي ڪلڪ ڪريو.

ادائگي جا طريقا

ايل/سي, ٽي/ٽي, ويسٽرن يونين, پي پال, ڪريڊٽ ڪارڊ وغيره.

ترسيل

اهو سمنڊ ذريعي موڪلي سگهجي ٿو, هوا ذريعي, يا ASAP کي ظاهر ڪندي جيئن ئي واپسي جي وصولي.

FAQ

(High purity 3N titanium sputtering target Titanium Round Target)