Overview of high purity GR1 sputtering titanium target
Titanium (Ya) ni kipengele cha kemikali chenye nambari ya atomiki 22 na inaonyeshwa kama Ti kwenye jedwali la mara kwa mara. Ni ya kundi la metali za mpito na inajulikana kwa wiani wake wa chini, uwiano wa juu wa nguvu-kwa-uzito, na upinzani wa kipekee wa kutu. Imegunduliwa ndani 1791 na William Gregor, titanium imekuwa nyenzo muhimu katika tasnia nyingi kwa sababu ya mchanganyiko wake wa kipekee wa mali.
Feature of high purity GR1 sputtering titanium target
-
Uzito wa Chini na Nguvu ya Juu: Titanium ni kuhusu 45% nyepesi kuliko chuma lakini ina nguvu sawa, kuifanya kuwa bora kwa programu ambapo kupunguza uzito ni muhimu bila kuathiri nguvu.
-
Upinzani wa kutu: Inaunda safu ya oksidi tulivu ambayo inalinda chuma cha msingi kutoka kwa vitu vya babuzi, ikiwa ni pamoja na maji ya bahari na klorini, kuifanya iwe sugu kwa kutu.
-
Utangamano wa kibayolojia: Titanium inavumiliwa vizuri na mwili wa binadamu na haina kusababisha athari mbaya, ndiyo sababu hutumiwa sana katika vipandikizi vya matibabu na vyombo vya upasuaji.
-
Upinzani wa joto: Yenye kiwango myeyuko cha 1,668°C (3,034°F), titanium inaweza kuhimili joto la juu, kuifanya kufaa kwa matumizi ya anga na magari.
-
Isiyo ya Sumaku na Isiyo na Sumu: Sifa hizi hufanya titani kuwa bora kwa matumizi katika mashine za MRI na vifaa vingine nyeti vya kielektroniki.
-
Upinzani wa uchovu: Titanium inaonyesha upinzani bora kwa uchovu wa chuma, muhimu katika upakiaji wa maombi ya mzunguko kama vile sehemu za ndege.
.
(high purity GR1 sputtering titanium target)
Parameters of high purity GR1 sputtering titanium target
The high purity GR1 target parameter is important in the performance of your sputtering titanium target because it affects the type of electron that gets produced and the energy used during the sputtering process. The higher the value of the target parameter, the more highly reactive electrons will be generated, leading to higher energy input and lower energy output.
Some common values for the target parameter include:
– Target voltage: 5.0 kV
– Target current: 25 A
– Graining rate (G): 18.0 m/s^2
– Feed-down time (Td): 400 ms
– Edge and source location parameters (E/L): 3.0 x 10^-6 m and 9 x 10^-6 m respectively
By adjusting these values, you can improve the surface of your target and increase its surface area, which can lead to higher energy output and better targeting accuracy.
(high purity GR1 sputtering titanium target)
Wasifu wa Kampuni
Metal Mummy ni muuzaji anayeaminika wa kimataifa wa nyenzo za kemikali & mtengenezaji aliye na uzoefu wa zaidi ya miaka 12 katika kutoa shaba ya hali ya juu na bidhaa za jamaa.
Kampuni ina idara ya kitaaluma ya kiufundi na Idara ya Usimamizi wa Ubora, maabara yenye vifaa vya kutosha, na iliyo na vifaa vya hali ya juu vya upimaji na kituo cha huduma kwa wateja baada ya mauzo.
Ikiwa unatafuta poda ya chuma yenye ubora wa juu na bidhaa za jamaa, tafadhali jisikie huru kuwasiliana nasi au bonyeza bidhaa zinazohitajika kutuma uchunguzi.
Mbinu za Malipo
L/C, T/T, Muungano wa Magharibi, Paypal, Kadi ya Mkopo nk.
Usafirishaji
Inaweza kusafirishwa kwa bahari, kwa hewa, au kwa kufichua ASAP mara tu risiti ya malipo itakapopokelewa.
Maswali Yanayoulizwa Mara kwa Mara
(high purity GR1 sputtering titanium target)
