Overview of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
ไทเทเนียม (ของ) เป็นองค์ประกอบทางเคมีที่มีเลขอะตอม 22 และมีสัญลักษณ์เป็น Ti บนตารางธาตุ. อยู่ในกลุ่มโลหะทรานซิชันและขึ้นชื่อในเรื่องความหนาแน่นต่ำ, อัตราส่วนความแข็งแรงต่อน้ำหนักสูง, และทนทานต่อการกัดกร่อนเป็นพิเศษ. ค้นพบใน 1791 โดย วิลเลียม เกรเกอร์, ไทเทเนียมได้กลายเป็นวัสดุที่สำคัญในอุตสาหกรรมต่างๆ มากมาย เนื่องจากมีการผสมผสานคุณสมบัติที่เป็นเอกลักษณ์.
Feature of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
-
ความหนาแน่นต่ำและมีความแข็งแรงสูง: ไทเทเนียมเป็นเรื่องเกี่ยวกับ 45% เบากว่าเหล็กแต่มีความแข็งแรงพอๆ กัน, ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานที่การลดน้ำหนักเป็นสิ่งสำคัญโดยไม่กระทบต่อความแข็งแกร่ง.
-
ความต้านทานการกัดกร่อน: มันสร้างชั้นออกไซด์แบบพาสซีฟที่ปกป้องโลหะที่อยู่ด้านล่างจากสารที่มีฤทธิ์กัดกร่อน, รวมถึงน้ำทะเลและคลอรีน, ทำให้ทนทานต่อการกัดกร่อนได้สูง.
-
ความเข้ากันได้ทางชีวภาพ: ไทเทเนียมทนต่อร่างกายมนุษย์ได้ดีและไม่ก่อให้เกิดอาการไม่พึงประสงค์, ด้วยเหตุนี้จึงมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในการปลูกถ่ายทางการแพทย์และเครื่องมือผ่าตัด.
-
ทนความร้อน: โดยมีจุดหลอมเหลว 1,668°C (3,034°F), ไทเทเนียมสามารถทนต่ออุณหภูมิสูงได้, ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานด้านการบินและอวกาศและยานยนต์.
-
ไม่เป็นแม่เหล็กและปลอดสารพิษ: คุณสมบัติเหล่านี้ทำให้ไทเทเนียมเหมาะสำหรับการใช้งานในเครื่อง MRI และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่มีความละเอียดอ่อนอื่นๆ.
-
ต้านทานความเมื่อยล้า: ไทเทเนียมมีความทนทานต่อความล้าของโลหะได้ดีเยี่ยม, สำคัญอย่างยิ่งในการใช้งานโหลดแบบวน เช่น ชิ้นส่วนเครื่องบิน.
.
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
Parameters of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
The “direct 4N purityHIP method” for Ti target and titanium sputtering target is a highly efficient and effective technique that can achieve extremely high purity levels in Ti. This process typically involves the use of a mixture of plasma sources, including a direct beam source and a high energy ion source, to create Ti targets with very low impurities.
The purity level of the Ti target can be significantly improved by using the HIP method, which involves heating the Ti target to extremely high temperatures, creating a plasma pool at the surface of the target. The plasma is then bombarded with ions from a higher-energy source, such as a neutral gas or a special cathode gas, which combine with the plasma to form titanium ions. These titanium ions are then collected and terminated onto the surface of the Ti target, resulting in a highly pure Ti target.
In addition to improving the purity of the Ti target, the HIP method also provides several other advantages over traditional techniques, such as better control over the ionization conditions and higher efficiency in the removal of impurities. By carefully selecting and optimizing the parameters used in this process, it is possible to achieve high purity levels even in cases where impurities may accumulate at the surface of the Ti target.
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
ประวัติบริษัท
Metal Mummy คือผู้จำหน่ายวัสดุเคมีระดับโลกที่เชื่อถือได้ & ผู้ผลิตที่มีประสบการณ์มากกว่า 12 ปีในการจัดหาผลิตภัณฑ์ทองแดงและญาติคุณภาพสูงเป็นพิเศษ.
บริษัทมีแผนกเทคนิคมืออาชีพและแผนกควบคุมคุณภาพ, ห้องปฏิบัติการที่มีอุปกรณ์ครบครัน, และติดตั้งอุปกรณ์ทดสอบที่ทันสมัยและศูนย์บริการลูกค้าหลังการขาย.
หากคุณกำลังมองหาผงโลหะคุณภาพสูงและผลิตภัณฑ์ที่เกี่ยวข้อง, โปรดติดต่อเราหรือคลิกผลิตภัณฑ์ที่จำเป็นเพื่อส่งคำถาม.
วิธีการชำระเงิน
แอล/ซี, ที/ที, เวสเทิร์นยูเนี่ยน, เพย์พาล, บัตรเครดิต ฯลฯ.
การจัดส่ง
มันสามารถจัดส่งทางทะเลได้, ทางอากาศ, หรือโดยเปิดเผยทันทีที่ได้รับชำระหนี้.
คำถามที่พบบ่อย
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
