Overview of Machined Parts Titanium Products Titanium Sputtering Target Titanium Target
ไทเทเนียม (ของ) เป็นองค์ประกอบทางเคมีที่มีเลขอะตอม 22 และมีสัญลักษณ์เป็น Ti บนตารางธาตุ. อยู่ในกลุ่มโลหะทรานซิชันและขึ้นชื่อในเรื่องความหนาแน่นต่ำ, อัตราส่วนความแข็งแรงต่อน้ำหนักสูง, และทนทานต่อการกัดกร่อนเป็นพิเศษ. ค้นพบใน 1791 โดย วิลเลียม เกรเกอร์, ไทเทเนียมได้กลายเป็นวัสดุที่สำคัญในอุตสาหกรรมต่างๆ มากมาย เนื่องจากมีการผสมผสานคุณสมบัติที่เป็นเอกลักษณ์.
Feature of Machined Parts Titanium Products Titanium Sputtering Target Titanium Target
-
ความหนาแน่นต่ำและมีความแข็งแรงสูง: ไทเทเนียมเป็นเรื่องเกี่ยวกับ 45% เบากว่าเหล็กแต่มีความแข็งแรงพอๆ กัน, ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานที่การลดน้ำหนักเป็นสิ่งสำคัญโดยไม่กระทบต่อความแข็งแกร่ง.
-
ความต้านทานการกัดกร่อน: มันสร้างชั้นออกไซด์แบบพาสซีฟที่ปกป้องโลหะที่อยู่ด้านล่างจากสารที่มีฤทธิ์กัดกร่อน, รวมถึงน้ำทะเลและคลอรีน, ทำให้ทนทานต่อการกัดกร่อนได้สูง.
-
ความเข้ากันได้ทางชีวภาพ: ไทเทเนียมทนต่อร่างกายมนุษย์ได้ดีและไม่ก่อให้เกิดอาการไม่พึงประสงค์, ด้วยเหตุนี้จึงมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในการปลูกถ่ายทางการแพทย์และเครื่องมือผ่าตัด.
-
ทนความร้อน: โดยมีจุดหลอมเหลว 1,668°C (3,034°F), ไทเทเนียมสามารถทนต่ออุณหภูมิสูงได้, ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานด้านการบินและอวกาศและยานยนต์.
-
ไม่เป็นแม่เหล็กและปลอดสารพิษ: คุณสมบัติเหล่านี้ทำให้ไทเทเนียมเหมาะสำหรับการใช้งานในเครื่อง MRI และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่มีความละเอียดอ่อนอื่นๆ.
-
ต้านทานความเมื่อยล้า: ไทเทเนียมมีความทนทานต่อความล้าของโลหะได้ดีเยี่ยม, สำคัญอย่างยิ่งในการใช้งานโหลดแบบวน เช่น ชิ้นส่วนเครื่องบิน.
.

(Machined Parts Titanium Products Titanium Sputtering Target Titanium Target)
Parameters of Machined Parts Titanium Products Titanium Sputtering Target Titanium Target
Titanium is a very strong and durable material, often used in the aerospace industry for components such as wings, fuselage, and engines. It is known for its excellent corrosion resistance and high thermal conductivity, making it ideal for use in a variety of applications.
One parameter that is commonly used to describe the properties of titanium is its “titanium sputtering target.” A titanium sputtering target is a substrate that is used to create titanium chips by exposing them to a chemical plasma. The titanium sputtering target can be made from various materials, including tungsten carbide or carbon fiber reinforced plastic (CFRP), and its composition determines the specific properties of the resulting titanium chips.
The titanium sputtering target parameter refers to the characteristics of the target material itself, such as its composition, grain size, and porosity. These parameters can affect the quality of the titanium chips produced by the sputtering process, as well as their durability and performance in various applications.
Overall, understanding the titanium sputtering target parameter is important for selecting the appropriate sputtering target material and optimizing the sputtering process for the desired product specifications.

(Machined Parts Titanium Products Titanium Sputtering Target Titanium Target)
ประวัติบริษัท
Metal Mummy คือผู้จำหน่ายวัสดุเคมีระดับโลกที่เชื่อถือได้ & ผู้ผลิตที่มีประสบการณ์มากกว่า 12 ปีในการจัดหาผลิตภัณฑ์ทองแดงและญาติคุณภาพสูงเป็นพิเศษ.
บริษัทมีแผนกเทคนิคมืออาชีพและแผนกควบคุมคุณภาพ, ห้องปฏิบัติการที่มีอุปกรณ์ครบครัน, และติดตั้งอุปกรณ์ทดสอบที่ทันสมัยและศูนย์บริการลูกค้าหลังการขาย.
หากคุณกำลังมองหาผงโลหะคุณภาพสูงและผลิตภัณฑ์ที่เกี่ยวข้อง, โปรดติดต่อเราหรือคลิกผลิตภัณฑ์ที่จำเป็นเพื่อส่งคำถาม.
วิธีการชำระเงิน
แอล/ซี, ที/ที, เวสเทิร์นยูเนี่ยน, เพย์พาล, บัตรเครดิต ฯลฯ.
การจัดส่ง
มันสามารถจัดส่งทางทะเลได้, ทางอากาศ, หรือโดยเปิดเผยทันทีที่ได้รับชำระหนี้.
คำถามที่พบบ่อย

(Machined Parts Titanium Products Titanium Sputtering Target Titanium Target)




















































































