Overview of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
Titanyum (İle ilgili) atom numarasına sahip kimyasal bir elementtir 22 Periyodik tabloda Ti ile sembolize edilir. Geçiş metalleri grubuna aittir ve düşük yoğunluğuyla bilinir., yüksek mukavemet/ağırlık oranı, ve olağanüstü korozyon direnci. Keşfedilen 1791 kaydeden William Gregor, Titanyum, benzersiz özellik kombinasyonu nedeniyle birçok endüstride hayati bir malzeme haline geldi.
Feature of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
-
Düşük Yoğunluk ve Yüksek Mukavemet: Titanyum yaklaşık 45% çelikten daha hafiftir ancak benzer dayanıklılığa sahiptir, dayanıklılıktan ödün vermeden ağırlığın azaltılmasının kritik olduğu uygulamalar için idealdir.
-
Korozyon Direnci: Alttaki metali aşındırıcı maddelerden koruyan pasif bir oksit tabakası oluşturur, deniz suyu ve klor dahil, korozyona karşı oldukça dayanıklı olmasını sağlar.
-
Biyouyumluluk: Titanyum insan vücudu tarafından iyi tolere edilir ve olumsuz reaksiyonlara neden olmaz, Bu nedenle tıbbi implantlarda ve cerrahi aletlerde yaygın olarak kullanılmaktadır..
-
Isı Direnci: 1.668°C erime noktasına sahip (3,034°F), titanyum yüksek sıcaklıklara dayanabilir, havacılık ve otomotiv uygulamalarına uygun hale getiriyor.
-
Manyetik Olmayan ve Toksik Olmayan: Bu özellikler titanyumu MRI makineleri ve diğer hassas elektronik cihazlardaki uygulamalar için ideal kılar..
-
Yorulma Direnci: Titanyum metal yorgunluğuna karşı mükemmel direnç gösterir, uçak parçaları gibi döngüsel yükleme uygulamalarında çok önemlidir.
.
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
Parameters of factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target
The “direct 4N purityHIP method” for Ti target and titanium sputtering target is a highly efficient and effective technique that can achieve extremely high purity levels in Ti. This process typically involves the use of a mixture of plasma sources, including a direct beam source and a high energy ion source, to create Ti targets with very low impurities.
The purity level of the Ti target can be significantly improved by using the HIP method, which involves heating the Ti target to extremely high temperatures, creating a plasma pool at the surface of the target. The plasma is then bombarded with ions from a higher-energy source, such as a neutral gas or a special cathode gas, which combine with the plasma to form titanium ions. These titanium ions are then collected and terminated onto the surface of the Ti target, resulting in a highly pure Ti target.
In addition to improving the purity of the Ti target, the HIP method also provides several other advantages over traditional techniques, such as better control over the ionization conditions and higher efficiency in the removal of impurities. By carefully selecting and optimizing the parameters used in this process, it is possible to achieve high purity levels even in cases where impurities may accumulate at the surface of the Ti target.
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
Şirket Profili
Metal Mummy güvenilir bir küresel kimyasal malzeme tedarikçisidir & Süper yüksek kaliteli bakır ve benzeri ürünler sağlamada 12 yılı aşkın deneyime sahip üretici.
Şirketin profesyonel bir teknik departmanı ve Kalite Kontrol Departmanı bulunmaktadır., iyi donanımlı bir laboratuvar, ve gelişmiş test ekipmanları ve satış sonrası müşteri hizmetleri merkezi ile donatılmıştır..
Yüksek kaliteli metal tozu ve ilgili ürünler arıyorsanız, lütfen bizimle iletişime geçmekten çekinmeyin veya bir soruşturma göndermek için gerekli ürünlere tıklayın.
Ödeme Yöntemleri
akreditif, T/T, Western Union, PayPal, Kredi Kartı vb..
Sevkiyat
Deniz yoluyla sevk edilebilir, hava yoluyla, veya geri ödeme makbuzundan hemen sonra en kısa sürede açıklayarak.
SSS
(factory directly 4N (99.99%) purity HIP method Ti target Titanium sputtering target)
