Молибден

PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target

Молибден продуктлары төрле формаларны һәм кушымталарны үз эченә ала, югары эретү ноктасы кебек молибденның уникаль үзлекләрен куллану, көч, һәм коррозиягә каршы тору. Бу продуктлар гадәттә югары җитештерүчән сәнәгатьтә кулланыла

Quитата алыгыз
Безнең белән элемтәгә керегез

Overview of PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target

Молибден (М.) атом саны булган химик элемент 42 һәм периодик таблицада Mo символы белән күрсәтелә. Бу төркемдә урнашкан күчеш металл 6 һәм период 5. Молибден югары эрү ноктасы белән билгеле, искиткеч көч, һәм җылылык тотрыклылыгы, аны төрле сәнәгать кушымталарында мөһим компонент итү.

Feature of PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target

  1. Highгары эретү ноктасы: Молибден барлык саф элементлар арасында иң эретү нокталарының берсе, 2623 ° C. (4,753° F.). Бу мөлкәт аны югары температуралы кушымталар өчен идеаль итә.

  2. Көч һәм ныклык: Highгары температурада да, молибден үзенең көчен һәм катылыгын саклый, экстремаль шартларда куллану өчен бик кирәк.

  3. Коррозиягә каршы тору: Молибден күп кислоталарга һәм эшкәртүләргә яхшы коррозиягә каршы тора, азот кислотасы кебек оксидлаштыручы кислоталар белән һөҗүм ителсә дә.

  4. Rылылык үткәрүчәнлеге: Бу искиткеч җылылык үткәргеч, эффектив җылылык үткәрү кирәк булган кушымталар өчен яраклы итү.

  5. Эретүче агент: Молибден эретүче агент буларак киң кулланыла, аеруча корыч белән, катылыгын арттыру, кырыслык, һәм коррозиягә каршы тору. Датсыз корычларда еш кына бу үзенчәлекләр өчен молибден бар.

  6. Электр кушымталары: Аның түбән каршылыгы һәм югары температураның тотрыклылыгы аркасында, молибден электр контактларында һәм җылыту элементларында кулланыла.

  7. Майлау: Молибден диффид (MoS₂) гади коры майлау, югары басымда түбән сүрелү өслекләрен тәэмин итү, югары температура шартлары.

PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target

(PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target)

Parameters of PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target

The PVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition) target for MoS2/MoS2-doped Molybdenum Sulfide is typically made of materials like tungsten carbide, silicon carbide, or aluminum oxide. The properties of the target can be tailored by adjusting the composition and surface finish of the material.
The parameters that affect the performance of the PVD target include:

1. Композиция: The composition of the target determines its chemical bonding capabilities and sputtering rate. MoS2 has strong covalent bonds with sulfur and oxygen, while Molybdenum Sulfide has weak metallic bonds with sulfur and oxygen. A higher composition may result in faster sputtering rates, but it may also require higher pressure and temperature to achieve a good surface quality.
2. Surface finish: The surface finish of the target affects the adhesion of the deposited material and the sputtering rate. A rougher surface will create a better bond between the PVD target and the substrate, leading to more consistent sputtering results.
3. Pressure: The pressure applied during PVD can control the sputtering rate and improve the surface quality. Higher pressures will generally result in faster sputtering rates and a lower surface contamination rate, while lower pressures may result in a higher sputtering rate and a higher surface contamination rate.
4. Temperature: The temperature applied during PVD can affect the reactivity of the substrate and the energy transfer from the PVD target to the substrate. Higher temperatures will generally result in faster reactivity and a higher energy transfer rate, while lower temperatures may result in slower reactivity and a lower energy transfer rate.

These parameters can be adjusted to optimize the performance of the PVD target for specific applications. Мәсәлән, if you need a high-quality PVD target for applications such as microelectronics or nanotechnology, you may want to choose a target made of a harder material with a higher melting point. If you need a target for applications such as metal film etching or metal surface modification, you may want to choose a target made of a softer material with a lower melting point. Өстәвенә, you may want to consider using various types of PVD targets depending on your specific requirements, such as those based on the type of substrates you will be working with or the desired sputtering rates and quality of the deposited material.

PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target

(PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target)

Компания профиле

Металл Муми - ышанычлы глобаль химик материал белән тәэмин итүче & Супер югары сыйфатлы бакыр һәм туганнар продуктлары белән тәэмин итүдә 12 елдан артык тәҗрибәсе булган җитештерүче.

Компаниянең профессиональ техник бүлеге һәм сыйфат күзәтчелеге бүлеге бар, яхшы җиһазландырылган лаборатория, һәм алдынгы сынау җиһазлары һәм сатудан соң клиентларга хезмәт күрсәтү үзәге белән җиһазландырылган.

Әгәр дә сез югары сыйфатлы металл порошогы һәм чагыштырмача продукт эзлисез икән, зинһар, безнең белән элемтәгә керергә яки сорау җибәрү өчен кирәкле продуктларга басыгыз.

Түләү ысуллары

L / C., Т / Т., Western Union, Paypal, Кредит картасы һ.б..

Тапшыру

Аны диңгез белән җибәрергә мөмкин, һава белән, яисә түләү квитанциясе белән ASAPны ачып.

Сораулар

  1. What are the primary uses of PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target?

    PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target is primarily used in the production of steel alloys, бетү 80% куллану. Ул химик матдәләрдә дә кулланыла, майлау материаллары, электроника, һәм яктырту һәм атом энергиясе кебек махсус кушымталар.


  2. Молибден табигый табыла?

    Әйе, молибден табигый рәвештә crир кабыгында очрый, еш молибденит кебек минералларда (MoS₂) һәм пауэллит (CaMoO₄). Ул бакыр казу продукты буларак казыла.


  3. How does PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target affect human health?

    Аз күләмдә, молибден - кешеләр өчен мөһим эз элементы, фермент функцияләрендә роль уйнау. Ләкин, артык ашау агулануга китерергә мөмкин, гадәти диета шартларында бу бик сирәк.


  4. Молибден магнитлы?

    Молибден үзе магнит түгел. Ул диамагнит материал буларак классификацияләнә, димәк, ул магнит кырларын үзенә җәлеп итү урынына бераз кире кага.


  5. Нинди тармаклар молибденга бик нык таяналар?

    Корыч промышленность - молибденның иң зур кулланучысы, аннары химик, нефть һәм газ, автомобиль, аэрокосмос, һәм төзелеш тармагы.


  6. Молибденны эшкәртү мөмкинме?

    Әйе, молибден калдыклары материалларыннан эшкәртелергә мөмкин. Аның кыйммәтле үзенчәлекләрен һәм чагыштырмача азлыгын исәпкә алып, утильләштерү ресурсларны сакларга булыша һәм экономик яктан тормышка яраклы.

PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target

(PVD target MoS2 molybdenum disulfide molybdenum sulfide sputtering target)

Topгарыга борылыгыз