Whole titanium sputtering target

Overview of Whole titanium sputtering target

Титан (Ofәр сүзнең) атом саны булган химик элемент 22 һәм периодик таблицада Ti символы. Ул күчү металл төркеменә керә һәм түбән тыгызлыгы белән билгеле, югары көч-авырлык коэффициенты, һәм коррозиягә каршы тору. Ачыкланган 1791 Уильям Грегор, титан үзенчәлекле комбинациясе аркасында күп тармакларда мөһим материалга әйләнде.

Feature of Whole titanium sputtering target

1. Түбән тыгызлык һәм югары көч: Титан турында 45% корычтан җиңелрәк, ләкин охшаш көчкә ия, көчне бозмыйча, авырлыкны киметү критик булган кушымталар өчен идеаль итү.

2. Коррозиягә каршы тору: Ул төп металлны коррозив матдәләрдән саклый торган пассив оксид катламын барлыкка китерә, шул исәптән диңгез суы һәм хлор, коррозиягә бик нык каршы тору.

3. Биокомплективлык: Титан кеше организмы белән яхшы кабул ителә һәм начар реакция тудырмый, Шуңа күрә ул медицина имплантатларында һәм хирургия коралларында киң кулланыла.

4. Atылылыкка каршы тору: 1668 ° C эрү ноктасы белән (3,034° F.), титан югары температураларга каршы тора ала, аны аэрокосмик һәм автомобиль кушымталары өчен яраклы итү.

5. Магнит булмаган һәм токсик булмаган: Бу үзлекләр титанны MRI машиналарында һәм башка сизгер электрон җайланмаларда куллану өчен идеаль итә.

6. Ару-талуга каршы тору: Титан металл арыганлыкка бик яхшы каршылык күрсәтә, Очкыч өлешләре кебек цикллы йөкләү кушымталарында бик мөһим.

.

(Whole titanium sputtering target)

Parameters of Whole titanium sputtering target

The parameters of a whole titanium sputtering target refer to the factors that influence the performance and behavior of the target during sputtering processes. Some of the key parameters include:

1. Cross-section area: The cross-sectional area of the target determines its surface area, which affects the number of ions that can be impinging on it per unit time.
2. Critical current density: The critical current density is the minimum amount of current needed for ionization and deposition to occur at a given temperature. It is an important parameter for controlling the rate of sputtering processes.
3. Sputtering velocity: The sputtering velocity determines how quickly ions with different energies and charges can collide with the target. A higher sputtering velocity results in faster ionization and deposition rates.
4. Temperature: The temperature of the target determines the rate of sputtering and the properties of the deposited layer. Higher temperatures result in more rapid sputtering and deposition, but may also lead to greater thermal stress and damage to the material being sputtered.
5. Characteristic sputtering parameters: These are specific characteristics of the sputtering process that depend on the above parameters, such as the deposition rate, grain size, and purity of the deposited layer.
6. Beam profile: The beam profile of the sputtering beam is also important, as it affects the diffraction pattern of the deposited layer and can affect the thickness of the deposit.

Overall, understanding these parameters is crucial for optimizing the performance of a whole titanium sputtering target and achieving desired properties for industrial applications.

(Whole titanium sputtering target)

Компания профиле

Металл Муми - ышанычлы глобаль химик материал белән тәэмин итүче & Супер югары сыйфатлы бакыр һәм туганнар продуктлары белән тәэмин итүдә 12 елдан артык тәҗрибәсе булган җитештерүче.

Компаниянең профессиональ техник бүлеге һәм сыйфат күзәтчелеге бүлеге бар, яхшы җиһазландырылган лаборатория, һәм алдынгы сынау җиһазлары һәм сатудан соң клиентларга хезмәт күрсәтү үзәге белән җиһазландырылган.

Әгәр дә сез югары сыйфатлы металл порошогы һәм чагыштырмача продукт эзлисез икән, зинһар, безнең белән элемтәгә керергә яки сорау җибәрү өчен кирәкле продуктларга басыгыз.

Түләү ысуллары

L / C., Т / Т., Western Union, Paypal, Кредит картасы һ.б..

Тапшыру

Аны диңгез белән җибәрергә мөмкин, һава белән, яисә түләү квитанциясе белән ASAPны ачып.

Сораулар

(Whole titanium sputtering target)