high purity GR1 sputtering titanium target

Overview of high purity GR1 sputtering titanium target

ٹائٹینیم (کی) جوہری نمبر کے ساتھ ایک کیمیائی عنصر ہے۔ 22 اور متواتر جدول پر Ti کی علامت ہے۔. یہ ٹرانزیشن میٹلز گروپ سے تعلق رکھتا ہے اور اپنی کم کثافت کے لیے جانا جاتا ہے۔, اعلی طاقت سے وزن کا تناسب, اور غیر معمولی سنکنرن مزاحمت. میں دریافت ہوا۔ 1791 ولیم گریگور کی طرف سے, خصوصیات کے منفرد امتزاج کی وجہ سے ٹائٹینیم متعدد صنعتوں میں ایک اہم مواد بن گیا ہے۔.

Feature of high purity GR1 sputtering titanium target

1. کم کثافت اور اعلی طاقت: ٹائٹینیم کے بارے میں ہے 45% سٹیل سے ہلکا لیکن ایک جیسی طاقت رکھتا ہے۔, اسے ایپلی کیشنز کے لیے مثالی بنانا جہاں طاقت سے سمجھوتہ کیے بغیر وزن میں کمی ضروری ہے۔.

2. سنکنرن مزاحمت: یہ ایک غیر فعال آکسائڈ پرت بناتا ہے جو بنیادی دھات کو سنکنرن مادوں سے بچاتا ہے۔, سمندری پانی اور کلورین سمیت, اسے سنکنرن کے خلاف انتہائی مزاحم بنانا.

3. حیاتیاتی مطابقت: ٹائٹینیم انسانی جسم کے ذریعہ اچھی طرح سے برداشت کیا جاتا ہے اور منفی ردعمل کا سبب نہیں بنتا ہے۔, یہی وجہ ہے کہ یہ طبی امپلانٹس اور جراحی کے آلات میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتا ہے۔.

4. گرمی کی مزاحمت: 1,668 ° C کے پگھلنے کے نقطہ کے ساتھ (3,034°F), ٹائٹینیم اعلی درجہ حرارت کو برداشت کر سکتا ہے۔, اسے ایرو اسپیس اور آٹوموٹو ایپلی کیشنز کے لیے موزوں بنانا.

5. غیر مقناطیسی اور غیر زہریلا: یہ خصوصیات MRI مشینوں اور دیگر حساس الیکٹرانک آلات میں ایپلی کیشنز کے لیے ٹائٹینیم کو مثالی بناتی ہیں۔.

6. تھکاوٹ مزاحمت: ٹائٹینیم دھاتی تھکاوٹ کے خلاف بہترین مزاحمت کا مظاہرہ کرتا ہے۔, سائکلک لوڈنگ ایپلی کیشنز جیسے ہوائی جہاز کے پرزے میں اہم.

.

(high purity GR1 sputtering titanium target)

Parameters of high purity GR1 sputtering titanium target

The high purity GR1 target parameter is important in the performance of your sputtering titanium target because it affects the type of electron that gets produced and the energy used during the sputtering process. The higher the value of the target parameter, the more highly reactive electrons will be generated, leading to higher energy input and lower energy output.
Some common values for the target parameter include:
– Target voltage: 5.0 kV
– Target current: 25 اے
– Graining rate (G): 18.0 m/s^2
– Feed-down time (Td): 400 ms
– Edge and source location parameters (E/L): 3.0 x 10^-6 m and 9 x 10^-6 m respectively

By adjusting these values, you can improve the surface of your target and increase its surface area, which can lead to higher energy output and better targeting accuracy.

(high purity GR1 sputtering titanium target)

کمپنی کا پروفائل

میٹل ممی ایک قابل اعتماد عالمی کیمیائی مواد فراہم کنندہ ہے۔ & انتہائی اعلیٰ معیار کے تانبے اور رشتہ داروں کی مصنوعات فراہم کرنے میں 12 سال سے زیادہ کا تجربہ رکھنے والا صنعت کار.

کمپنی کے پاس پیشہ ورانہ تکنیکی شعبہ اور کوالٹی سپرویژن ڈیپارٹمنٹ ہے۔, ایک اچھی طرح سے لیس لیبارٹری, اور جدید ٹیسٹنگ آلات اور فروخت کے بعد کسٹمر سروس سینٹر سے لیس ہے۔.

اگر آپ اعلی معیار کے دھاتی پاؤڈر اور متعلقہ مصنوعات تلاش کر رہے ہیں۔, براہ کرم بلا جھجھک ہم سے رابطہ کریں یا انکوائری بھیجنے کے لیے ضروری مصنوعات پر کلک کریں۔.

ادائیگی کے طریقے

L/C, T/T, ویسٹرن یونین, پے پال, کریڈٹ کارڈ وغیرہ.

کھیپ

اسے سمندر کے ذریعے بھیجا جا سکتا تھا۔, ہوا سے, یا واپسی کی رسید کے ساتھ ہی جلد از جلد ظاہر کر کے.

اکثر پوچھے گئے سوالات

(high purity GR1 sputtering titanium target)